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Sistema de Gravação por Plasma ICP

O suporte revestido de SiC da Semicorex para o sistema de gravação por plasma ICP é uma solução confiável e econômica para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal de SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.

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Suporte para wafer de gravação ICP

O suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos carreadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.

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Sistema Epi Barril Aquecido Indutivamente para Epitaxia LPE

Se você precisa de um susceptor de grafite com condutividade térmica excepcional e propriedades de distribuição de calor, não procure mais do que o sistema Epi de barril aquecido indutivamente Semicorex para epitaxia LPE. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura, tornando-o a escolha ideal para uso em aplicações de fabricação de semicondutores.

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Estrutura de Barril para Reator Epitaxial Semicondutor

Com sua excepcional condutividade térmica e propriedades de distribuição de calor, a Estrutura Barril Semicorex para Reator Epitaxial Semicondutor é a escolha perfeita para uso em processos LPE e outras aplicações de fabricação de semicondutores. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura.

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Susceptor de barril de grafite revestido com SiC

Se você está procurando um susceptor de grafite de alto desempenho para uso em aplicações de fabricação de semicondutores, o susceptor de barril de grafite revestido com SiC da Semicorex é a escolha ideal. Sua excepcional condutividade térmica e propriedades de distribuição de calor o tornam a escolha ideal para um desempenho confiável e consistente em ambientes corrosivos e de alta temperatura.

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Susceptor de Barril para Epitaxia em Fase Líquida

Se você precisa de um susceptor de grafite que possa funcionar de forma confiável e consistente mesmo nos ambientes corrosivos e de alta temperatura mais exigentes, o susceptor de barril Semicorex para epitaxia em fase líquida é a escolha perfeita. Seu revestimento de carboneto de silício oferece excelente condutividade térmica e distribuição de calor, garantindo um desempenho excepcional em aplicações de fabricação de semicondutores.

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