O tubo de oxidação semicorex SiC é um componente de alto desempenho usado em fornos de tubo SiC para processamento térmico avançado de semicondutores. Ele foi projetado para estabilidade a longo prazo em condições extremas. Escolha Semicorex para nossa pureza material superior, controle dimensional apertado e qualidade consistente do produto, ajudando você a obter melhores resultados em todas as corridas de alta temperatura.*
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO anel superior EPI semicorex de 8 polegadas é um componente de grafite revestido com SiC projetado para uso como anel de tampa superior em sistemas de crescimento epitaxial. Escolha o Semicorex para sua pureza material líder do setor, usinagem precisa e qualidade consistente do revestimento que garante desempenho estável e vida útil prolongada em processos de semicondutores de alta temperatura.*
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO anel inferior EPI semicorex de 8 polegadas é um robusto componente de grafite revestido com SiC, essencial para o processamento epitaxial de bolacha. Escolha Semicorex para pureza de material incomparável, precisão de revestimento e desempenho confiável em todos os ciclos de produção.*
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Susceptador de EPI de 8 polegadas do Semicorex é um portador de wafer de grafite revestido com SiC de alto desempenho projetado para uso em equipamentos de deposição epitaxial. A escolha do semicorex garante pureza de material superior, fabricação de precisão e confiabilidade consistente do produto adaptada para atender aos padrões exigentes da indústria de semicondutores.*
consulte Mais informaçãoEnviar consultaAs placas de base de montagem de alumina semicorex são componentes cerâmicos de alto desempenho projetados para manuseio preciso da bolacha na fabricação de semicondutores. Sua força superior, isolamento e estabilidade térmica o tornam ideal para exigir ambientes de automação de salas limpas.*
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO mandril de vácuo de carboneto de silício de semicorex é uma solução de manuseio de bolas de alta desempenho criada a partir de carboneto poroso de silício. É especificamente projetado para adsorção a vácuo de bolachas de semicondutores durante processos críticos, como montagem (depilação), afinamento, desorganização, limpeza, cubos e recozimento térmico rápido (RTA). Escolha Semicorex para pureza de material incomparável, precisão dimensional e desempenho confiável em ambientes de semicondutores exigentes.*
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