Notícias da Empresa

Quais são as dificuldades técnicas do forno de crescimento de cristais SiC

O forno de crescimento de cristais é o equipamento principal para o crescimento de cristais de carboneto de silício. É semelhante ao tradicional forno de crescimento de cristal de silício cristalino. A estrutura do forno não é muito complicada. É composto principalmente pelo corpo do forno, sistema ......

O que é revestimento de carbono semelhante a vidro

O Semicorex oferece feltro de isolamento térmico de alta qualidade e revestimento de carbono semelhante a vidro.

O que é um wafer fictício?

No processo de fabricação de semicondutores, os wafers constituem a base da produção de chips. Entre estes, um tipo especial de wafer, conhecido como Dummy Wafer, desempenha um papel fundamental na garantia da estabilidade do equipamento e no controle dos custos de produção.

Materiais Hierárquicos de Carbono Poroso: Síntese e Introdução

Sintetizando pó de carboneto de silício de alta pureza

O pó de carboneto de silício de alta pureza apresenta características excepcionais de bandgap amplo, o que o torna um material ideal para a fabricação de dispositivos eletrônicos de alta frequência e alta potência.

Processo PECVD

A deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD) é uma tecnologia amplamente utilizada na fabricação de chips. Ele utiliza a energia cinética dos elétrons no plasma para ativar reações químicas na fase gasosa, conseguindo assim a deposição de filmes finos.