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Um chuveiro de SiC (carboneto de silício) é um componente especializado usado em vários processos industriais, particularmente na indústria de fabricação de semicondutores. Ele foi projetado para distribuir e fornecer gases de processo de maneira uniforme e precisa durante a deposição química de vapor (CVD) e os processos de crescimento epitaxial.

 

O chuveiro tem a forma de um disco ou placa com vários orifícios ou bicos uniformemente distribuídos em sua superfície. Esses orifícios servem como saídas para os gases do processo, permitindo que sejam injetados na câmara de processo ou na câmara de reação. O tamanho, formato e distribuição dos orifícios podem variar dependendo da aplicação específica e dos requisitos do processo.

 

Uma das principais vantagens de usar um chuveiro SiC é sua excelente condutividade térmica. Essa propriedade permite uma transferência de calor eficiente e uma distribuição de temperatura uniforme em toda a superfície do chuveiro, evitando pontos quentes e garantindo condições de processo consistentes. A condutividade térmica aprimorada também permite o resfriamento rápido do chuveiro após o processo, minimizando o tempo de inatividade e aumentando a produtividade geral.

 

Os chuveiros SiC são altamente duráveis ​​e resistentes ao desgaste, mesmo sob exposição prolongada a gases corrosivos e altas temperaturas. Essa longevidade se traduz em intervalos de manutenção estendidos e tempo de inatividade reduzido do equipamento, resultando em economia de custos e maior confiabilidade do processo.

 

Além de sua robustez, os chuveiros SiC oferecem excelentes capacidades de distribuição de gás. Os padrões e configurações de orifícios projetados com precisão garantem fluxo e distribuição uniformes de gás sobre a superfície do substrato, promovendo a deposição de filme consistente e desempenho aprimorado do dispositivo. A distribuição uniforme do gás também ajuda a minimizar as variações na espessura do filme, composição e outros parâmetros críticos, contribuindo para melhorar o controle e o rendimento do processo.

 

A Semicorex oferece um chuveiro semicondutor de carboneto de silício sinterizado de baixa resistividade. Temos a capacidade de projetar e fornecer materiais cerâmicos avançados utilizando uma variedade de recursos exclusivos.




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Tubo do forno de difusão

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O tubo do forno de difusão Semicorex é um componente crucial em equipamentos de fabricação de semicondutores, projetado especificamente para facilitar reações precisas e controladas essenciais para processos de fabricação de semicondutores. Como recipiente primário dentro da zona de reação de um forno semicondutor, o tubo do forno de difusão desempenha um papel fundamental na garantia da integridade e qualidade dos dispositivos semicondutores produzidos. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Chuveiro CVD-SiC

Chuveiro CVD-SiC

O chuveiro semicorex CVD-SiC oferece durabilidade, excelente gerenciamento térmico e resistência à degradação química, tornando-o uma escolha adequada para processos CVD exigentes na indústria de semicondutores. A Semicorex está empenhada em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos, estamos ansiosos para se tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Chuveiro CVD SiC revestido de grafite

Chuveiro CVD SiC revestido de grafite

Em um aparelho de plasma para gravação e deposição de vapor químico (CVD) de materiais em wafers, os gases do processo são fornecidos a uma câmara de processo através de um chuveiro de grafite revestido com CVD SiC. A Semicorex está empenhada em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos, estamos ansiosos para se tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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