A Semicorex Advanced Material Technology Co., Ltd é um fornecedor líder de alta qualidade de produtos de revestimento de SiC de deposição química a vapor (CVD) de alto nível na China. Estamos comprometidos com a pesquisa e desenvolvimento de materiais semicondutores inovadores, particularmente da tecnologia de revestimento SiC e sua aplicação na indústria de semicondutores. Oferecemos uma ampla gama de produtos de alta qualidade, comoSusceptores de grafite revestidos com SiC, carboneto de silício revestido, susceptores de epitaxia UV profunda, Aquecedores de substrato CVD, Portadores de wafer CVD SiC, barcos de wafer, assim comocomponentes semicondutoreseprodutos de cerâmica de carboneto de silício.
O filme fino de SiC usado em epitaxia de chip de LED e substratos de cristal único de silício tem uma fase cúbica com a mesma estrutura de rede cristalina do diamante e perde apenas para o diamante em dureza. O SiC é um material semicondutor de banda larga amplamente reconhecido com imenso potencial para aplicação na indústria eletrônica de semicondutores e possui excelentes propriedades físicas e químicas, como alta condutividade térmica, baixo coeficiente de expansão térmica e resistência a altas temperaturas e resistência à corrosão.
Na produção de dispositivos eletrônicos, os wafers devem passar por várias etapas, entre elas a epitaxia de silício, na qual os wafers são transportados em susceptores de grafite. A qualidade e as propriedades dos susceptores desempenham um papel crucial na qualidade da camada epitaxial do wafer. A base de grafite é um dos principais componentes do equipamento MOCVD e é o suporte e aquecedor do substrato. Seus parâmetros de desempenho termicamente estáveis, como a uniformidade térmica, desempenham um papel decisivo na qualidade do crescimento do material epitaxial e determinam diretamente a uniformidade e a pureza médias.
Na Semicorex, utilizamos CVD para fabricar filmes densos de β-SiC em grafite isostático de alta resistência, que tem maior pureza em comparação com materiais sinterizados de SiC. Nossos produtos, como susceptores de grafite revestidos com SiC, conferem à base de grafite propriedades especiais, tornando a superfície da base de grafite compacta, lisa e não porosa, resistente ao calor superior, uniformidade térmica, resistente à corrosão e resistente à oxidação.
A tecnologia de revestimento de SiC ganhou uso generalizado, particularmente no crescimento de portadores epitaxiais de LED e epitaxia de cristal único de Si. Com o rápido crescimento da indústria de semicondutores, a demanda por tecnologia e produtos de revestimento SiC aumentou significativamente. Nossos produtos de revestimento SiC têm uma ampla gama de aplicações na indústria aeroespacial, fotovoltaica, energia nuclear, ferrovia de alta velocidade, automotiva e outras indústrias.
Aplicação do produto
LED IC epitaxia
Epitaxia de silício de cristal único
Portadores de wafer RTP/TRA
Gravação ICP/PSS
gravação de plasma
SiC epitaxia
Epitaxia de silício monocristalino
Epitaxia de GaN à base de silício
Epitaxia ultravioleta profunda
gravação de semicondutor
indústria fotovoltaica
Sistema CVD Epitaxial SiC
Equipamento de crescimento de filme epitaxial de SiC
reator MOCVD
sistema MOCVD
equipamento CVD
sistemas PECVD
sistemas LPE
Sistemas Aixtron
Sistemas Nuflare
Sistemas TEL CVD
sistemas vecco
sistemas ETI