China Grafite especializada Fabricantes, Fornecedores, Fábrica

A Grafite Especial é um tipo de grafite artificial que é processada. É um material importante que é indispensável em todos os aspectos do processo de fabricação semicondutores e fotovoltaicos, incluindo crescimento de cristais, implantação de íons, epitaxia, etc.

1. Crescimento do cristal de carboneto de silício (sic)

O carboneto de silício, como material semicondutor de terceira geração, é amplamente utilizado em novos veículos energéticos, comunicações 5G e outros campos. No processo de crescimento de cristais SiC de 6 e 8 polegadas, a grafite isostática é usada principalmente para fabricar os seguintes componentes-chave:

Crisol de grafite: isso pode ser usado para sintetizar a matéria -prima em pó SiC e também ajudar no crescimento de cristais em altas temperaturas. Sua alta pureza, resistência de alta temperatura e resistência ao choque térmico garantem um ambiente estável de crescimento de cristais.

Aquecedor de grafite: isso fornece distribuição uniforme de calor, garantindo crescimento de cristal de alta qualidade.

Tubo de isolamento: mantém a uniformidade da temperatura dentro do forno de crescimento de cristais e reduz a perda de calor.

2. Implante de íons

A implantação de íons é um processo -chave na fabricação de semicondutores. A grafite isostática é usada principalmente para fabricar os seguintes componentes em implantes de íons:

Getter de grafite: isso absorve íons de impureza no feixe de íons, garantindo a pureza do íon.

Anel de foco de grafite: isso concentra o feixe de íons, melhorando a precisão e a eficiência do implante de íons. Bandejas de substrato de grafite: usadas para suportar as bolachas de silício e manter a estabilidade e a consistência durante o implante de íons.

3. Processo de epitaxia

O processo de epitaxia é uma etapa crítica na fabricação de dispositivos semicondutores. A grafite isostaticamente pressionada é usada principalmente para fabricar os seguintes componentes em fornos de epitaxia:

Bandejas de grafite e susceptores: usados ​​para suportar bolachas de silício, fornecendo suporte estável e condução uniforme de calor durante o processo de epitaxia.

4. Outras aplicações de fabricação de semicondutores

A grafite isostaticamente pressionada também é amplamente utilizada nas seguintes aplicações de fabricação de semicondutores:

Processo de gravura: usado para fabricar eletrodos de grafite e componentes de proteção para gravadores. Sua resistência à corrosão e alta pureza garantem estabilidade e precisão no processo de gravação.

Deposição de vapor químico (DCV): Usado para fabricar bandejas e aquecedores de grafite dentro de fornos CVD. Sua alta condutividade térmica e resistência de alta temperatura garantem deposição uniforme de filme fino.

Teste de embalagem: usado para fabricar acessórios de teste e bandejas de transportadoras. Sua alta precisão e baixa contaminação garantem resultados precisos dos testes.

Vantagens de peças de grafite

Alta pureza:

Usando material de grafite isostaticamente pressionado com alta pureza com conteúdo extremamente baixo de impureza, ele atende aos requisitos rigorosos de pureza do material da fabricação de semicondutores. O próprio forno de purificação da empresa pode purificar a grafite abaixo de 5ppm.

Alta precisão:

Com equipamentos de processamento avançado e tecnologia de processamento maduro, ele garante que a precisão e as tolerâncias de forma e forma dimensionais do produto atinjam o nível de mícron.

Alto desempenho:

O produto possui excelente resistência a alta temperatura, resistência à corrosão, resistência à radiação, alta condutividade térmica e outras propriedades, atendendo às várias duras condições de trabalho da fabricação de semicondutores.

Serviço personalizado:

Os serviços personalizados de design e processamento de produtos podem ser fornecidos de acordo com as necessidades do cliente para atender às necessidades de diferentes cenários de aplicativos.

Tipos de produtos de grafite

(1) grafite isostática
Os produtos de grafite isostática são produzidos por prensagem isostática fria. Comparados com outros métodos de formação, os cadinhos produzidos por esse processo têm excelente estabilidade. Os produtos de grafite necessários para os cristais únicos do SiC são de tamanho grande, o que levará à pureza desigual na superfície e dentro dos produtos de grafite, que não podem atender aos requisitos de uso. Para atender aos requisitos de purificação profunda dos produtos de grafite de grande porte necessários para cristais únicos do SiC, um processo exclusivo de purificação de pulso termoquímicos de alta temperatura deve ser adotado para obter uma purificação profunda e uniforme de produtos de grafite de tamanho grande ou especial, de modo que a pureza da superfície e núcleo do produto possa atender aos requisitos de uso.

(2) grafite porosa
A grafite porosa é um tipo de grafite com alta porosidade e baixa densidade. No processo de crescimento do cristal SiC, a grafite porosa desempenha um papel significativo na melhoria da uniformidade da transferência de massa, reduzindo a taxa de ocorrência de mudança de fase e melhorando a forma do cristal.
O uso de grafite porosa melhora a uniformidade da temperatura e a temperatura da área da matéria -prima, aumenta a diferença de temperatura axial no crisol e também tem um certo efeito no enfraquecimento da recristalização da superfície da matéria -prima; Na câmara de crescimento, a grafite porosa melhora a estabilidade do fluxo do material durante todo o processo de crescimento, aumenta a razão C/Si da área de crescimento, ajuda a reduzir a probabilidade de mudança de fase e, ao mesmo tempo, a grafite porosa também desempenha um papel na melhoria da interface de cristal.

(3) feltro
Sentido e sensato, ambos desempenham o papel de importantes materiais de isolamento térmico no crescimento do cristal SiC e nos links epitaxiais.

(4) folha de grafite
O papel de grafite é um material funcional feito de grafite de flocos de alto carbono através de tratamento químico e rolamento de alta temperatura. Possui alta condutividade térmica, condutividade elétrica, flexibilidade e resistência à corrosão.

(5) Materiais compostos
O campo térmico de carbono-carbono é um dos principais consumíveis na produção fotovoltaica de forno de cristal único.

Produção semicorex

O semicorex faz grafite com métodos de produção personalizados e pequenos. A produção em pequenos lotes torna os produtos mais controláveis. Todo o processo é controlado por controladores lógicos programáveis ​​(PLCs), os dados detalhados do processo foram registrados, permitindo a rastreabilidade completa do ciclo de vida.

Durante todo o processo de torrefação, a consistência alcançada em resistividade em diferentes locais e o controle de temperatura apertado mantido. Isso garante a homogeneidade e a confiabilidade dos materiais de grafite.

A Semicorex utiliza tecnologia de prensagem totalmente isostática, que é diferente de outros fornecedores; Isso significa que a grafite é ultra uniforme e é comprovada particularmente importante nos processos epitaxiais. Os testes abrangentes de uniformidade do material foram realizados, incluindo densidade, resistividade, dureza, força de flexão e força em diferentes amostras.