Você pode ter a certeza de comprar o transportador de gravação ICP de nossa fábrica e ofereceremos o melhor serviço pós-venda e entrega pontual. O susceptor de wafer Semicorex é feito de grafite revestida com carboneto de silício usando o processo de deposição química de vapor (CVD). Este material possui propriedades únicas, incluindo alta temperatura e resistência química, excelente resistência ao desgaste, alta condutividade térmica e alta resistência e rigidez. Essas propriedades o tornam um material atraente para diversas aplicações de alta temperatura, incluindo sistemas de gravação por plasma indutivamente acoplado (ICP).
Fornecemos serviços personalizados, ajudamos você a inovar com componentes que duram mais, reduzem os tempos de ciclo e melhoram os rendimentos.
O disco de gravação Semicorex SiC ICP não é apenas um componente; é um facilitador essencial da fabricação de semicondutores de ponta. À medida que a indústria de semicondutores continua sua busca incansável pela miniaturização e desempenho, a demanda por materiais avançados como o SiC só se intensificará. Ele garante a precisão, a confiabilidade e o desempenho necessários para alimentar nosso mundo movido pela tecnologia. Nós da Semicorex nos dedicamos a fabricar e fornecer disco de gravação SiC ICP de alto desempenho que combina qualidade com economia.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO susceptor Semicorex SiC para ICP Etch é fabricado com foco na manutenção de altos padrões de qualidade e consistência. Os robustos processos de fabricação usados para criar esses susceptores garantem que cada lote atenda a rigorosos critérios de desempenho, proporcionando resultados confiáveis e consistentes na gravação de semicondutores. Além disso, a Semicorex está equipada para oferecer cronogramas de entrega rápidos, o que é crucial para acompanhar as demandas de resposta rápida da indústria de semicondutores, garantindo que os prazos de produção sejam cumpridos sem comprometer a qualidade. Susceptor SiC para ICP Etch que combina qualidade com economia.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO componente ICP revestido com SiC da Semicorex foi projetado especificamente para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com um fino revestimento de cristal SiC, nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaQuando se trata de processos de manuseio de wafer, como epitaxia e MOCVD, o revestimento SiC de alta temperatura para câmaras de gravação a plasma da Semicorex é a melhor escolha. Nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica e resistência química durável graças ao nosso fino revestimento de cristal SiC.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaA bandeja de gravação de plasma ICP da Semicorex foi projetada especificamente para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em altas temperaturas de até 1.600 °C, nossos transportadores fornecem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO transportador revestido com SiC da Semicorex para sistema de gravação de plasma ICP é uma solução confiável e econômica para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.
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