China Portador de Gravação ICP Fabricantes, Fornecedores, Fábrica

Você pode ter certeza de comprar ICP Etching Carrier de nossa fábrica e ofereceremos o melhor serviço pós-venda e entrega pontual. O susceptor de bolacha Semicorex é feito de grafite revestido de carboneto de silício usando o processo de deposição química de vapor (CVD). Este material possui propriedades únicas, incluindo alta temperatura e resistência química, excelente resistência ao desgaste, alta condutividade térmica e alta resistência e rigidez. Essas propriedades o tornam um material atraente para várias aplicações de alta temperatura, incluindo sistemas de corrosão por plasma acoplado indutivamente (ICP).

Fornecemos serviço personalizado, ajudamos você a inovar com componentes que duram mais, reduzem os tempos de ciclo e melhoram os rendimentos.

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Componente ICP revestido com SiC

O componente ICP revestido com SiC da Semicorex foi projetado especificamente para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com um fino revestimento de cristal de SiC, nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.

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Revestimento de SiC de alta temperatura para câmaras de gravação a plasma

Quando se trata de processos de manuseio de wafer, como epitaxia e MOCVD, o revestimento SiC de alta temperatura da Semicorex para câmaras de gravação a plasma é a melhor escolha. Nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável graças ao nosso fino revestimento de cristal SiC.

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Bandeja de gravação de plasma ICP

A bandeja de gravação de plasma ICP da Semicorex foi projetada especificamente para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos transportadores fornecem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.

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Sistema de Gravação por Plasma ICP

O suporte revestido de SiC da Semicorex para o sistema de gravação por plasma ICP é uma solução confiável e econômica para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal de SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.

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Plasma Indutivamente Acoplado (ICP)

O susceptor revestido de carboneto de silício da Semicorex para plasma indutivamente acoplado (ICP) foi projetado especificamente para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos carreadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.

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Suporte para wafer de gravação ICP

O suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos carreadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.

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A Semicorex produz Portador de Gravação ICP há muitos anos e é um dos fabricantes e fornecedores profissionais de Portador de Gravação ICP na China. Depois de comprar nossos produtos avançados e duráveis que fornecem embalagem a granel, garantimos a grande quantidade em entrega rápida. Ao longo dos anos, fornecemos aos clientes um serviço personalizado. Os clientes estão satisfeitos com nossos produtos e excelente serviço. Esperamos sinceramente tornar-se seu parceiro comercial confiável de longo prazo! Bem-vindo ao comprar produtos de nossa fábrica.