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China Porta-gravação ICP Fabricantes, Fornecedores, Fábrica
Você pode ter a certeza de comprar o transportador de gravação ICP de nossa fábrica e ofereceremos o melhor serviço pós-venda e entrega pontual. O susceptor de wafer Semicorex é feito de grafite revestida com carboneto de silício usando o processo de deposição química de vapor (CVD). Este material possui propriedades únicas, incluindo alta temperatura e resistência química, excelente resistência ao desgaste, alta condutividade térmica e alta resistência e rigidez. Essas propriedades o tornam um material atraente para diversas aplicações de alta temperatura, incluindo sistemas de gravação por plasma indutivamente acoplado (ICP).
Fornecemos serviços personalizados, ajudamos você a inovar com componentes que duram mais, reduzem os tempos de ciclo e melhoram os rendimentos.
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Revestimento SiC de alta temperatura para câmaras de gravação de plasma
Quando se trata de processos de manuseio de wafer, como epitaxia e MOCVD, o revestimento SiC de alta temperatura para câmaras de gravação a plasma da Semicorex é a melhor escolha. Nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica e resistência química durável graças ao nosso fino revestimento de cristal SiC.
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Bandeja de gravação de plasma ICP
A bandeja de gravação de plasma ICP da Semicorex foi projetada especificamente para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em altas temperaturas de até 1.600 °C, nossos transportadores fornecem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
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Sistema de gravação de plasma ICP
O transportador revestido com SiC da Semicorex para sistema de gravação de plasma ICP é uma solução confiável e econômica para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.
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Plasma Acoplado Indutivamente (ICP)
O susceptor revestido de carboneto de silício da Semicorex para plasma indutivamente acoplado (ICP) foi projetado especificamente para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em altas temperaturas de até 1.600°C, nossos transportadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
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Suporte de wafer de gravação ICP
O suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em altas temperaturas de até 1.600°C, nossos transportadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
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Placa transportadora de gravação ICP
A placa transportadora de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto oferece resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica e padrões de fluxo de gás laminar. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
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A Semicorex produz Porta-gravação ICP há muitos anos e é um dos fabricantes e fornecedores profissionais de Porta-gravação ICP na China. Depois de comprar nossos produtos avançados e duráveis que fornecem embalagem a granel, garantimos a grande quantidade em entrega rápida. Ao longo dos anos, fornecemos aos clientes um serviço personalizado. Os clientes estão satisfeitos com nossos produtos e excelente serviço. Esperamos sinceramente tornar-se seu parceiro comercial confiável de longo prazo! Bem-vindo ao comprar produtos de nossa fábrica.
