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China Portador de Gravação ICP Fabricantes, Fornecedores, Fábrica

Você pode ter certeza de comprar ICP Etching Carrier de nossa fábrica e ofereceremos o melhor serviço pós-venda e entrega pontual. O susceptor de bolacha Semicorex é feito de grafite revestido de carboneto de silício usando o processo de deposição química de vapor (CVD). Este material possui propriedades únicas, incluindo alta temperatura e resistência química, excelente resistência ao desgaste, alta condutividade térmica e alta resistência e rigidez. Essas propriedades o tornam um material atraente para várias aplicações de alta temperatura, incluindo sistemas de corrosão por plasma acoplado indutivamente (ICP).

Fornecemos serviço personalizado, ajudamos você a inovar com componentes que duram mais, reduzem os tempos de ciclo e melhoram os rendimentos.





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Placa de transporte de gravação ICP

Placa de transporte de gravação ICP

A placa transportadora de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto oferece resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.

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Suporte de wafer para processo de gravação ICP

Suporte de wafer para processo de gravação ICP

O Suporte de Wafer da Semicorex para Processo de Gravação ICP é a escolha perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto apresenta resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar ideais para resultados consistentes e confiáveis.

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Grafite revestido de carbono com silício ICP

Grafite revestido de carbono com silício ICP

O grafite revestido com carbono e silício ICP da Semicorex é a escolha ideal para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto apresenta resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar ideais.

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Sistema de gravação por plasma ICP para processo PSS

Sistema de gravação por plasma ICP para processo PSS

Escolha o sistema de gravação por plasma ICP da Semicorex para processo PSS para processos de epitaxia e MOCVD de alta qualidade. Nosso produto é projetado especificamente para esses processos, oferecendo resistência superior ao calor e à corrosão. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.

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Placa de gravação de plasma ICP

Placa de gravação de plasma ICP

A placa de gravação a plasma ICP da Semicorex oferece resistência superior ao calor e à corrosão para manuseio de wafer e processos de deposição de película fina. Nosso produto é projetado para suportar altas temperaturas e limpeza química severa, garantindo durabilidade e longevidade. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.

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Portador de gravação ICP de carboneto de silício

Portador de gravação ICP de carboneto de silício

Procurando um transportador de wafer confiável para processos de gravação? Não procure mais do que o Carbeto de Silício ICP Etching Carrier da Semicorex. Nosso produto é projetado para suportar altas temperaturas e limpeza química severa, garantindo durabilidade e longevidade. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.

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A Semicorex produz Portador de Gravação ICP há muitos anos e é um dos fabricantes e fornecedores profissionais de Portador de Gravação ICP na China. Depois de comprar nossos produtos avançados e duráveis ​​que fornecem embalagem a granel, garantimos a grande quantidade em entrega rápida. Ao longo dos anos, fornecemos aos clientes um serviço personalizado. Os clientes estão satisfeitos com nossos produtos e excelente serviço. Esperamos sinceramente tornar-se seu parceiro comercial confiável de longo prazo! Bem-vindo ao comprar produtos de nossa fábrica.
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