Plasma Indutivamente Acoplado (ICP)

Precisa de um transportador de wafer que possa lidar com ambientes químicos agressivos e de alta temperatura? Não procure mais do que o susceptor revestido de carboneto de silício da Semicorex para Plasma Indutivamente Acoplado (ICP). Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal de SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.
Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso susceptor SiC para Plasma Indutivamente Acoplado (ICP).

Parâmetros do susceptor para Plasma Indutivamente Acoplado (ICP)

Características do susceptor revestido de carboneto de silício para plasma indutivamente acoplado (ICP)

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir a uniformidade do perfil térmico

- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas