Portador de gravação ICP de carboneto de silício

Garanta padrões ideais de fluxo de gás laminar e uniformidade do perfil térmico com o Carbeto de Silício ICP Etching Carrier da Semicorex. Nosso produto é projetado para alcançar os melhores resultados possíveis para deposição de filmes finos e processos de manuseio de wafer. Com resistência superior ao calor e à corrosão, nosso transportador é a escolha perfeita para aplicações exigentes.

Na Semicorex, nos concentramos em fornecer produtos de alta qualidade e econômicos aos nossos clientes. Nosso Carbeto de Silício ICP Etching Carrier tem uma vantagem de preço e é exportado para muitos mercados europeus e americanos. Nosso objetivo é ser seu parceiro de longo prazo, oferecendo produtos de qualidade consistente e atendimento excepcional ao cliente.

Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso Carbeto de Silício ICP Etching Carrier.

Parâmetros do Carbeto de Silício ICP Etching Carrier

Características do Carbeto de Silício ICP Etching Carrier

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir a uniformidade do perfil térmico

- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas