Porta-gravura de carboneto de silício ICP

Garanta padrões ideais de fluxo de gás laminar e uniformidade do perfil térmico com o transportador de gravação ICP de carboneto de silício da Semicorex. Nosso produto foi projetado para alcançar os melhores resultados possíveis em processos de deposição de filmes finos e manuseio de wafers. Com resistência superior ao calor e à corrosão, nosso transportador é a escolha perfeita para aplicações exigentes.

Na Semicorex, nos concentramos em fornecer produtos de alta qualidade e econômicos aos nossos clientes. Nosso transportador de gravação ICP de carboneto de silício tem uma vantagem de preço e é exportado para muitos mercados europeus e americanos. Nosso objetivo é ser seu parceiro de longo prazo, fornecendo produtos de qualidade consistente e atendimento ao cliente excepcional.

Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso transportador de gravação ICP de carboneto de silício.

Parâmetros do transportador de gravação ICP de carboneto de silício

Características do transportador de gravação ICP de carboneto de silício

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir uniformidade do perfil térmico

- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas