Grafite revestido de carbono com silício ICP

Os transportadores de wafer usados ​​no processamento de crescimento epitaxial devem suportar altas temperaturas e limpeza química severa. Os susceptores de grafite revestidos com carbono e silício Semicorex ICP são projetados especificamente para essas aplicações exigentes de equipamentos de epitaxia. Nosso produto é projetado para suportar altas temperaturas e limpeza química severa, garantindo longevidade e ótimos resultados.
Nosso grafite revestido com carbono e silício ICP foi projetado para obter o melhor padrão de fluxo de gás laminar, garantindo a uniformidade do perfil térmico. Isso ajuda a evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas, garantindo crescimento epitaxial de alta qualidade no chip wafer.
Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso grafite revestido com silício e carbono ICP.

Parâmetros de grafite revestido de carbono com silício ICP

Características do grafite revestido de carbono com silício ICP

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir a uniformidade do perfil térmico

- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas