China Forno CVD Fabricantes, Fornecedores, Fábrica

Fornos CVD usados ​​para o processo de deposição química de vapor (CVD). A deposição química de vapor é um processo no qual uma película fina é depositada sobre um substrato usando uma reação química entre gases precursores vaporizados e uma superfície aquecida.

Os fornos CVD normalmente consistem em uma câmara de vácuo, um sistema de fornecimento de gás, um sistema de aquecimento e um suporte de substrato. A câmara de vácuo é usada para remover ar e outros gases do ambiente de deposição para evitar que impurezas interfiram no processo de deposição. O sistema de fornecimento de gás fornece os gases precursores à superfície do substrato onde eles reagem para formar a película fina desejada. O sistema de aquecimento aquece o substrato até a temperatura necessária para que a reação ocorra. O suporte de substrato é usado para manter o substrato no lugar durante o processo de deposição.

No processo CVD, os gases precursores são introduzidos na câmara de vácuo e aquecidos a uma temperatura onde se decompõem e reagem para formar uma película fina no substrato aquecido. A temperatura e a pressão do ambiente de deposição são cuidadosamente controladas para garantir que as propriedades desejadas do filme sejam alcançadas.

Os fornos CVD são amplamente utilizados na indústria de semicondutores para depositar filmes finos para a fabricação de dispositivos microeletrônicos, como circuitos integrados e células solares. Eles também são usados ​​na produção de materiais avançados, como revestimentos, fibras ópticas e supercondutores.