Forno a Vácuo CVD e CVI

Semicorex é um fabricante e fornecedor em grande escala de produtos revestidos de carboneto de silício na China. Fornecemos soluções de forno personalizadas. Nosso forno a vácuo CVD e CVI tem uma boa vantagem de preço e cobre muitos dos mercados europeu e americano. Estamos ansiosos para se tornar seu parceiro de longo prazo.

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Descrição do produto

O forno a vácuo Semicorex CVD e CVI é uma ferramenta de alta qualidade projetada para processos de deposição química de vapor (CVD). As temperaturas de reação até 2200°C. Ele é capaz de depositar uma ampla variedade de materiais, incluindo carboneto de silício, nitreto de boro, grafeno e muito mais. O forno CVD tem um design robusto e é feito de materiais de alta qualidade, garantindo confiabilidade e durabilidade para uso a longo prazo. Tem estruturas horizontais e verticais.

Aplicativo:Disco de freio composto C/C, cadinho, molde e etc.

Características do forno a vácuo Semicorex CVD e CVI

1.Design robusto feito de materiais de alta qualidade para uso a longo prazo;

2. Fornecimento de gás controlado com precisão através do uso de controladores de fluxo de massa e válvulas de alta qualidade;

3.Equipado com recursos de segurança, como proteção contra temperatura excessiva e detecção de vazamento de gás para operação segura e confiável;

4. Usando várias zonas de controle de temperatura, grande uniformidade de temperatura;

5.Câmara de deposição especialmente projetada com bom efeito de vedação e ótimo desempenho anticontaminação;

6. Usando vários canais de deposição com fluxo de gás uniforme, sem cantos mortos de deposição e superfície de deposição perfeita;

7. Possui tratamento para alcatrão, poeira sólida e gases orgânicos durante o processo de deposição

Recursos Opcionais:

â¢Porta do forno: rosca/hidráulica/tipo de elevação manual; abertura giratória/abertura paralela (tamanho grande

porta do forno); aperto manual/anel de bloqueio automático apertado

â¢ Recipiente do forno: todo aço carbono/camada interna aço inoxidável/todo aço inoxidável

Zona quente do forno: feltro de carbono macio/feltro de grafite macio/feltro composto rígido/CFC

â¢Elemento de aquecimento e mufla: grafite de prensa isostática/grafite de alta pureza, resistência e densidade/grafite de tamanho fino

â¢ Sistema de gás de processo: medidor de fluxo de volume/massa

â¢ Termopar: tipo K/tipo N/tipo C/tipo S

Especificações do Forno CVD
Modelo	Tamanho da zona de trabalho (L × A × C) mm	máx. Temperatura (°C)	Temperatura Uniformidade (°C)	Vácuo final (Pa)	Taxa de Aumento de Pressão (Pa/h)
LFH-6900-C	600×600×900	1500	±7,5	1-100	0.67
LFH-10015-C	1000×1000×1500	1500	±7,5	1-100	0.67
LFH-1220-C	1200×1200×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-1530-C	1500×1500×3000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-2535-C	2500×2000×3500	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D3050-C	Ï300×500	1500	±5	1-100	0.67
LFV-D6080-C	Ï600×800	1500	±7,5	1-100	0.67
LFV-D8120-C	Ï800×1200	1500	±7,5	1-100	0.67
LFV-D11-C	Ï1100×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D26-C	Ï2600×3200	1500	±10	1-100	0.67

*Os parâmetros acima podem ser ajustados aos requisitos do processo, eles não são como padrão de aceitação, a especificação de detalhe. serão declarados na proposta técnica e nos acordos.