Os susceptores de barril são um componente crítico usado em vários processos de fabricação de semicondutores, como LPE, MOCVD. A Semicorex aplica carboneto de silício de alta pureza em camadas finas sobre o grafite usando o processo de deposição química de vapor (CVD), que torna o material de grau semicondutor com excelente estabilidade térmica, resistência química e resistência ao desgaste, tornando-os ideais para uso em alta- processos de temperatura.
● Grafite revestida com SiC de alta pureza
● Resistência superior ao calor e resistência química
● Alta uniformidade térmica
● Excelente resistência ao desgaste
O Susceptor de Barril Revestido de SiC Semicorex CVD é um componente meticulosamente projetado, adaptado para processos avançados de fabricação de semicondutores, particularmente epitaxia. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem a maior parte dos mercados europeu e americano. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO grafite revestido com carboneto de silício Semicorex Barrel Susceptor é um componente especializado projetado para uso no processo de epitaxia, especialmente no transporte de wafers. Contate-nos hoje para saber mais sobre como podemos ajudá-lo com suas necessidades de processamento de wafers semicondutores.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO susceptor de barril revestido de SiC Semicorex para crescimento epitaxial de LPE é um produto de alto desempenho projetado para fornecer desempenho consistente e confiável por um período prolongado. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade em chips de wafer. Sua customização e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSemicorex Barrel Susceptor Epi System é um produto de alta qualidade que oferece adesão de revestimento superior, alta pureza e resistência à oxidação em alta temperatura. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Seu custo-benefício e customização o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE) Semicorex é um produto inovador que oferece excelente desempenho térmico, perfil térmico uniforme e adesão de revestimento superior. Sua alta pureza, resistência à oxidação em alta temperatura e resistência à corrosão o tornam a escolha ideal para uso na indústria de semicondutores. Suas opções customizáveis e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.
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