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Grafite revestida com carboneto de silício susceptor de barril
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Grafite revestida com carboneto de silício susceptor de barril

O grafite revestido com carboneto de silício Semicorex Barrel Susceptor é um componente especializado projetado para uso no processo de epitaxia, particularmente no transporte de wafers. Contate-nos hoje para saber mais sobre como podemos ajudá-lo com suas necessidades de processamento de wafers semicondutores.

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Descrição do produto

O grafite revestido com carboneto de silício Semicorex Barrel Susceptor é um componente especializado projetado para uso no processo de epitaxia, particularmente no transporte de wafers. Este grafite revestido com carboneto de silício susceptor de barril é feito de material de grafite, que é conhecido por sua excelente condutividade térmica e estabilidade em altas temperaturas. Para melhorar seu desempenho e durabilidade, a superfície de grafite é revestida com uma camada de carboneto de silício (SiC).

O revestimento de carboneto de silício do Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite serve a vários propósitos cruciais neste contexto. Em primeiro lugar, proporciona uma camada adicional de proteção ao substrato de grafite subjacente, protegendo-o de reações químicas e desgaste que podem ocorrer durante o processo de epitaxia. Em segundo lugar, o revestimento de SiC melhora as propriedades térmicas do Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite, permitindo um aquecimento eficiente e uniforme dos wafers. Este aquecimento uniforme é essencial para obter camadas epitaxiais consistentes e de alta qualidade nas pastilhas semicondutoras.

O design do Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite é otimizado para segurar e transportar com segurança vários wafers durante todo o processo de epitaxia. Sua estrutura em forma de barril permite fácil carregamento e descarregamento de wafers, garantindo distribuição adequada de calor e estabilidade térmica durante a operação.

No geral, o grafite revestido com carboneto de silício Barrel Susceptor representa um componente crítico em equipamentos de epitaxia, oferecendo confiabilidade, durabilidade e controle térmico preciso, essenciais para a produção de dispositivos semicondutores avançados.



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