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Com suas excepcionais propriedades de condutividade térmica e distribuição de calor, a Estrutura de Barril Semicorex para Reator Epitaxial Semicondutor é a escolha perfeita para uso em processos LPE e outras aplicações de fabricação de semicondutores. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura.
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Com seu alto ponto de fusão, resistência à oxidação e resistência à corrosão, o Susceptor de Crescimento de Cristal Revestido com SiC Semicorex é a escolha ideal para uso em aplicações de crescimento de cristal único. Seu revestimento de carboneto de silício oferece excelentes propriedades de planicidade e distribuição de calor, tornando-o a escolha ideal para ambientes de alta temperatura.
Se você precisa de um susceptor de grafite que possa funcionar de maneira confiável e consistente até mesmo nos ambientes corrosivos e de alta temperatura mais exigentes, o susceptor de barril Semicorex para epitaxia de fase líquida é a escolha perfeita. Seu revestimento de carboneto de silício oferece excelente condutividade térmica e distribuição de calor, garantindo desempenho excepcional em aplicações de fabricação de semicondutores.
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