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Placa de transporte de gravação ICP

Placa de transporte de gravação ICP

A placa transportadora de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto oferece resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.

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Descrição do produto

A placa portadora de gravação ICP da Semicorex oferece excelente durabilidade e longevidade para manuseio de wafer e processos de deposição de filmes finos. Nosso produto possui resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador garante o manuseio ideal de wafers imaculados. Retira alta temperatura, limpeza química, bem como alta uniformidade térmica.
Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nossa placa de transporte de gravura ICP.


Parâmetros da placa transportadora de gravação ICP

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD

Estrutura de cristal

FCC fase β

Densidade

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamanho de grão

μm

2~10

Pureza Química

%

99.99995

Capacidade de calor

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura de sublimação

2700

Força Felexural

MPa (RT 4 pontos)

415

Módulo de Young

Gpa (dobra de 4pt, 1300â)

430

Expansão Térmica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Condutividade térmica

(W/mK)

300


Características da placa transportadora de gravação ICP

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir a uniformidade do perfil térmico

- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas





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