A placa transportadora de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto oferece resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
A placa portadora de gravação ICP da Semicorex oferece excelente durabilidade e longevidade para manuseio de wafer e processos de deposição de filmes finos. Nosso produto possui resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador garante o manuseio ideal de wafers imaculados. Retira alta temperatura, limpeza química, bem como alta uniformidade térmica.
Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nossa placa de transporte de gravura ICP.
Parâmetros da placa transportadora de gravação ICP
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
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Propriedades SiC-CVD |
||
Estrutura de cristal |
FCC fase β |
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho de grão |
μm |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura de sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (dobra de 4pt, 1300â) |
430 |
Expansão Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características da placa transportadora de gravação ICP
- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas