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China Porta-gravação ICP Fabricantes, Fornecedores, Fábrica
Você pode ter a certeza de comprar o transportador de gravação ICP de nossa fábrica e ofereceremos o melhor serviço pós-venda e entrega pontual. O susceptor de wafer Semicorex é feito de grafite revestida com carboneto de silício usando o processo de deposição química de vapor (CVD). Este material possui propriedades únicas, incluindo alta temperatura e resistência química, excelente resistência ao desgaste, alta condutividade térmica e alta resistência e rigidez. Essas propriedades o tornam um material atraente para diversas aplicações de alta temperatura, incluindo sistemas de gravação por plasma indutivamente acoplado (ICP).
Fornecemos serviços personalizados, ajudamos você a inovar com componentes que duram mais, reduzem os tempos de ciclo e melhoram os rendimentos.
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Suporte de wafer para processo de gravação ICP
O suporte de wafer da Semicorex para processo de gravação ICP é a escolha perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto possui resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica e padrões ideais de fluxo de gás laminar para resultados consistentes e confiáveis.
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Grafite revestida com carbono de silício ICP
O grafite revestido com carbono e silício ICP da Semicorex é a escolha ideal para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto possui resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica e padrões ideais de fluxo de gás laminar.
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Sistema de gravação de plasma ICP para processo PSS
Escolha o sistema de gravação de plasma ICP da Semicorex para processo PSS para processos de epitaxia e MOCVD de alta qualidade. Nosso produto é projetado especificamente para esses processos, oferecendo resistência superior ao calor e à corrosão. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
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Placa de gravação de plasma ICP
A placa de gravação a plasma ICP da Semicorex oferece resistência superior ao calor e à corrosão para manuseio de wafers e processos de deposição de filmes finos. Nosso produto é projetado para suportar altas temperaturas e limpezas químicas severas, garantindo durabilidade e longevidade. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
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Porta-gravura de carboneto de silício ICP
Procurando um transportador de wafer confiável para processos de gravação? Não procure mais, o transportador de gravação ICP de carboneto de silício da Semicorex. Nosso produto é projetado para suportar altas temperaturas e limpezas químicas severas, garantindo durabilidade e longevidade. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
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Placa SiC para Processo de Gravura ICP
A placa SiC da Semicorex para processo de gravação ICP é a solução perfeita para requisitos de processamento químico severos e de alta temperatura na deposição de filmes finos e manuseio de wafers. Nosso produto possui resistência ao calor superior e até uniformidade térmica, garantindo espessura e resistência consistentes da camada epi. Com uma superfície limpa e lisa, nosso revestimento de cristal SiC de alta pureza proporciona um manuseio ideal para wafers imaculados.
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A Semicorex produz Porta-gravação ICP há muitos anos e é um dos fabricantes e fornecedores profissionais de Porta-gravação ICP na China. Depois de comprar nossos produtos avançados e duráveis que fornecem embalagem a granel, garantimos a grande quantidade em entrega rápida. Ao longo dos anos, fornecemos aos clientes um serviço personalizado. Os clientes estão satisfeitos com nossos produtos e excelente serviço. Esperamos sinceramente tornar-se seu parceiro comercial confiável de longo prazo! Bem-vindo ao comprar produtos de nossa fábrica.
