Bandeja de gravação de plasma ICP

Nossa bandeja de gravação a plasma ICP é revestida com carboneto de silício usando o método CVD, que é a solução ideal para processos de manuseio de wafers que exigem limpeza química agressiva e em alta temperatura. Os transportadores da Semicorex apresentam um fino revestimento de cristal de SiC que fornece perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evita contaminação ou difusão de impurezas.
Na Semicorex, nos concentramos em fornecer produtos de alta qualidade e econômicos aos nossos clientes. Nossa bandeja de gravação a plasma ICP tem uma vantagem de preço e é exportada para muitos mercados europeus e americanos. Nosso objetivo é ser seu parceiro de longo prazo, fornecendo produtos de qualidade consistente e atendimento ao cliente excepcional.
Contate-nos hoje para saber mais sobre nossa bandeja de gravação de plasma ICP.

Parâmetros da bandeja de gravação de plasma ICP

Características da bandeja de gravação de plasma ICP

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir uniformidade do perfil térmico

- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas