Camadas espessas de carboneto de silício (SiC) de alta pureza, normalmente superiores a 1 mm, são componentes críticos em diversas aplicações de alto valor, incluindo fabricação de semicondutores e tecnologias aeroespaciais. Este artigo investiga o processo de Deposição Química de Vapor (CVD) para a......
consulte Mais informaçãoA Deposição Química de Vapor (CVD) é uma técnica versátil de deposição de filme fino amplamente empregada na indústria de semicondutores para a fabricação de filmes finos conformados de alta qualidade em vários substratos. Este processo envolve reações químicas de precursores gasosos sobre uma super......
consulte Mais informaçãoEste artigo investiga o uso e a trajetória futura dos barcos de carboneto de silício (SiC) em relação aos barcos de quartzo na indústria de semicondutores, focando especificamente em suas aplicações na fabricação de células solares.
consulte Mais informaçãoO crescimento do wafer epitaxial de nitreto de gálio (GaN) é um processo complexo, geralmente utilizando um método de duas etapas. Este método envolve vários estágios críticos, incluindo cozimento em alta temperatura, crescimento da camada tampão, recristalização e recozimento. Ao controlar meticulo......
consulte Mais informaçãoTanto os wafers epitaxiais quanto os difusos são materiais essenciais na fabricação de semicondutores, mas diferem significativamente em seus processos de fabricação e aplicações alvo. Este artigo investiga as principais distinções entre esses tipos de wafer.
consulte Mais informaçãoA gravação é um processo essencial na fabricação de semicondutores. Este processo pode ser categorizado em dois tipos: ataque a seco e ataque a úmido. Cada técnica tem suas vantagens e limitações, sendo crucial compreender as diferenças entre elas. Então, como você escolhe o melhor método de gravaçã......
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