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Notícias da Empresa

Processos Plasmáticos em Operações CVD

A Deposição Química de Vapor (CVD) refere-se a uma tecnologia de processo onde múltiplos reagentes gasosos em pressões parciais variadas sofrem uma reação química sob condições específicas de temperatura e pressão. A substância sólida resultante deposita-se na superfície do material do substrato, ob......

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Camadas epitaxiais de silício e substratos na fabricação de semicondutores

Nos campos da eletrônica moderna, da optoeletrônica, da microeletrônica e da tecnologia da informação, os substratos semicondutores e as tecnologias epitaxiais são indispensáveis. Eles fornecem uma base sólida para a fabricação de dispositivos semicondutores de alto desempenho e alta confiabilidade.......

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A importância dos materiais porosos de grafite para o crescimento de cristais de SiC

O componente do forno de crescimento de cristal SiC da Semicorex, o barril de grafite poroso, trará três benefícios principais e pode efetivamente fortalecer a competitividade dos substratos domésticos de SiC:

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A primeira empresa de industrialização de substrato de óxido de gálio de 6 polegadas

Recentemente, nossa empresa anunciou que desenvolveu com sucesso um único cristal de óxido de gálio de 6 polegadas usando o método de fundição, tornando-se a primeira empresa industrializada nacional a dominar a tecnologia de preparação de substrato de óxido de gálio único de 6 polegadas.

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Material de isolamento de campo térmico

O processo de crescimento do silício monocristalino ocorre predominantemente dentro de um campo térmico, onde a qualidade do ambiente térmico impacta significativamente a qualidade do cristal e a eficiência do crescimento. O design do campo térmico desempenha um papel fundamental na formação de grad......

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O que é susceptor de grafite revestido com SiC?

Para apresentar o susceptor de grafite revestido com SiC, é importante entender sua aplicação. Ao fabricar dispositivos, é necessário construir mais camadas epitaxiais em alguns substratos de wafer.

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