Como fabricante profissional, gostaríamos de fornecer SiC Epitaxy. E ofereceremos o melhor serviço pós-venda e entrega pontual. A Semicorex fornece susceptor de grafite revestido com carboneto de silício CVD usado para suportar wafers. Sua construção de grafite revestida com carboneto de silício (SiC) de alta pureza oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme para espessura e resistência consistentes da camada epi e resistência química durável. O revestimento fino de cristal SiC fornece uma superfície limpa e lisa, crítica para o manuseio, uma vez que os wafers imaculados entram em contato com o susceptor em muitos pontos em toda a sua área.
A Semicorex apresenta seu susceptor de disco SiC, projetado para elevar o desempenho de equipamentos de epitaxia, deposição de vapor químico metal-orgânico (MOCVD) e processamento térmico rápido (RTP). O susceptor de disco SiC meticulosamente projetado oferece propriedades que garantem desempenho superior, durabilidade e eficiência em ambientes de alta temperatura e vácuo.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Susceptor Semicorex SiC ALD oferece inúmeras vantagens em processos ALD, incluindo estabilidade em altas temperaturas, maior uniformidade e qualidade do filme, maior eficiência do processo e maior vida útil do susceptor. Esses benefícios tornam o SiC ALD Susceptor uma ferramenta valiosa para obter filmes finos de alto desempenho em diversas aplicações exigentes.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO susceptor planetário Semicorex ALD é importante em equipamentos ALD devido à sua capacidade de suportar condições severas de processamento, garantindo deposição de filme de alta qualidade para uma variedade de aplicações. À medida que a demanda por dispositivos semicondutores avançados com dimensões menores e desempenho aprimorado continua a crescer, espera-se que o uso do Susceptor Planetário ALD no ALD se expanda ainda mais.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO susceptor de epitaxia Semicorex MOCVD emergiu como um componente crítico na epitaxia de deposição de vapor químico metal-orgânico (MOCVD), permitindo a fabricação de dispositivos semicondutores de alto desempenho com eficiência e precisão excepcionais. Sua combinação única de propriedades de material o torna perfeitamente adequado para os exigentes ambientes térmicos e químicos encontrados durante o crescimento epitaxial de semicondutores compostos.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Semicorex SiC Multi Pocket Susceptor representa uma tecnologia de capacitação crítica no crescimento epitaxial de wafers semicondutores de alta qualidade. Fabricados através de um sofisticado processo de Deposição Química de Vapor (CVD), esses susceptores fornecem uma plataforma robusta e de alto desempenho para alcançar excepcional uniformidade da camada epitaxial e eficiência do processo.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaExistem extensas propriedades do Disco Epitaxy Revestido com SiC Semicorex que o tornam um componente indispensável na fabricação de semicondutores, onde a precisão, durabilidade e robustez dos equipamentos são fundamentais para o sucesso de dispositivos semicondutores de alta tecnologia. Nós da Semicorex nos dedicamos à fabricação e fornecimento de discos epitaxiais revestidos com SiC de alto desempenho que combinam qualidade com economia.**
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