Como fabricante profissional, gostaríamos de fornecer SiC Epitaxy. E ofereceremos o melhor serviço pós-venda e entrega pontual. A Semicorex fornece susceptor de grafite revestido com carboneto de silício CVD usado para suportar wafers. Sua construção de grafite revestida com carboneto de silício (SiC) de alta pureza oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme para espessura e resistência consistentes da camada epi e resistência química durável. O revestimento fino de cristal SiC fornece uma superfície limpa e lisa, crítica para o manuseio, uma vez que os wafers imaculados entram em contato com o susceptor em muitos pontos em toda a sua área.
O componente Semicorex Epitaxy é um elemento crucial na produção de substratos de SiC de alta qualidade para aplicações avançadas de semicondutores, uma escolha confiável para sistemas de reatores LPE. Ao selecionar o Semicorex Epitaxy Component, os clientes podem ter confiança em seu investimento e aprimorar suas capacidades de produção no competitivo mercado de semicondutores.*
consulte Mais informaçãoEnviar consultaA Câmara de Reação Semicorex LPE Halfmoon é indispensável para a operação eficiente e confiável da epitaxia de SiC, garantindo a produção de camadas epitaxiais de alta qualidade, reduzindo custos de manutenção e aumentando a eficiência operacional. **
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSemicorex 6'' Wafer Carrier para Aixtron G5 oferece uma infinidade de vantagens para uso em equipamentos Aixtron G5, particularmente em processos de fabricação de semicondutores de alta temperatura e alta precisão.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Semicorex Epitaxy Wafer Carrier fornece uma solução altamente confiável para aplicações Epitaxy. Os materiais avançados e a tecnologia de revestimento garantem que esses transportadores ofereçam desempenho excepcional, reduzindo custos operacionais e tempo de inatividade devido à manutenção ou substituição.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaA Semicorex apresenta seu susceptor de disco SiC, projetado para elevar o desempenho de equipamentos de epitaxia, deposição de vapor químico metal-orgânico (MOCVD) e processamento térmico rápido (RTP). O susceptor de disco SiC meticulosamente projetado oferece propriedades que garantem desempenho superior, durabilidade e eficiência em ambientes de alta temperatura e vácuo.**
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Susceptor Semicorex SiC ALD oferece inúmeras vantagens em processos ALD, incluindo estabilidade em altas temperaturas, maior uniformidade e qualidade do filme, maior eficiência do processo e maior vida útil do susceptor. Esses benefícios tornam o SiC ALD Susceptor uma ferramenta valiosa para obter filmes finos de alto desempenho em diversas aplicações exigentes.**
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