A Semicorex fornece cerâmica de grau semicondutor para suas ferramentas de semicondutores OEM e componentes de manuseio de wafer com foco em camadas de carboneto de silício em indústrias de semicondutores. Há muitos anos que somos fabricantes e fornecedores de Silicon Wafer Carrier. Nosso Silicon Wafer Carrier tem uma boa vantagem de preço e cobre a maioria dos mercados europeus e americanos. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaA placa transportadora de grafite RTP da Semicorex é a solução perfeita para aplicações de processamento de wafer semicondutor, incluindo crescimento epitaxial e processamento de manuseio de wafer. Nosso produto é projetado para oferecer resistência térmica superior e uniformidade térmica, garantindo que os susceptores de epitaxia sejam submetidos ao ambiente de deposição, com alta resistência ao calor e à corrosão.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Semicorex RTP Carrier para MOCVD Epitaxial Growth é ideal para aplicações de processamento de wafer semicondutor, incluindo crescimento epitaxial e processamento de manuseio de wafer. Susceptores de grafite de carbono e cadinhos de quartzo são processados por MOCVD na superfície de grafite, cerâmica, etc. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem muitos dos mercados europeu e americano. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Suporte de Wafer da Semicorex para Processo de Gravação ICP é a escolha perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto apresenta resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar ideais para resultados consistentes e confiáveis.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO grafite revestido com carbono e silício ICP da Semicorex é a escolha ideal para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto apresenta resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar ideais.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaEscolha o sistema de gravação por plasma ICP da Semicorex para processo PSS para processos de epitaxia e MOCVD de alta qualidade. Nosso produto é projetado especificamente para esses processos, oferecendo resistência superior ao calor e à corrosão. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
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