Susceptores para reatores MOCVD

Os susceptores da Semicorex para reatores MOCVD são produtos de alta qualidade usados na indústria de semicondutores para diversas aplicações, como camadas de carboneto de silício e semicondutores de epitaxia. Nosso produto está disponível em formato de engrenagem ou anel e é projetado para alcançar resistência à oxidação em altas temperaturas, tornando-o estável em temperaturas de até 1600°C.

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Descrição do produto

Nossos susceptores para reatores MOCVD são feitos por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura, garantindo alta pureza. A superfície do produto é densa, com partículas finas e alta dureza, tornando-o resistente à corrosão por ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
Nossos susceptores para reatores MOCVD são projetados para garantir o revestimento em todas as superfícies, evitando o descascamento e obtendo o melhor padrão de fluxo laminar de gás. O produto garante uniformidade do perfil térmico e evita qualquer contaminação ou difusão de impurezas durante o processo, garantindo resultados de alta qualidade.
Na Semicorex, priorizamos a satisfação do cliente e fornecemos soluções econômicas. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo, fornecendo produtos de alta qualidade e atendimento ao cliente excepcional.

Parâmetros de susceptores para reatores MOCVD

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades SiC-CVD
Estrutura Cristalina	Fase β do FCC
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho do grão	μm	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J kg-1 K-1	640
Temperatura de Sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (TR 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)	430
Expansão Térmica (CTE)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300

Características do susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas