Os susceptores da Semicorex para reatores MOCVD são produtos de alta qualidade usados na indústria de semicondutores para várias aplicações, como camadas de carboneto de silício e semicondutores de epitaxia. Nosso produto está disponível em forma de engrenagem ou anel e é projetado para obter resistência à oxidação em altas temperaturas, tornando-o estável em temperaturas de até 1600°C.
Nossos susceptores para reatores MOCVD são feitos por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura, garantindo alta pureza. A superfície do produto é densa, com partículas finas e alta dureza, tornando-o resistente à corrosão por ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
Nossos susceptores para reatores MOCVD são projetados para garantir o revestimento em todas as superfícies, evitando descamação e obtendo o melhor padrão de fluxo de gás laminar. O produto garante a uniformidade do perfil térmico e evita qualquer contaminação ou difusão de impurezas durante o processo, garantindo resultados de alta qualidade.
Na Semicorex, priorizamos a satisfação do cliente e fornecemos soluções econômicas. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo, oferecendo produtos de alta qualidade e atendimento excepcional ao cliente.
Parâmetros de susceptores para reatores MOCVD
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
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Propriedades do SiC-CVD |
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Estrutura de cristal |
FCC fase β |
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho de grão |
¼m |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (dobra de 4pt, 1300â) |
430 |
Expansão Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características do susceptor de grafite revestido com SiC para MOCVD
- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas