Semicorex é um fabricante e fornecedor líder de susceptor MOCVD revestido de SiC. Nosso produto é especialmente projetado para indústrias de semicondutores para aumentar a camada epitaxial no chip wafer. O suporte de grafite revestido com carboneto de silício de alta pureza é usado como placa central no MOCVD, com um design em forma de engrenagem ou anel. Nosso susceptor é amplamente utilizado em equipamentos MOCVD, garantindo alta resistência ao calor e à corrosão, além de grande estabilidade em ambientes extremos.
Uma das características mais significativas do nosso Susceptor MOCVD revestido com SiC é que ele garante o revestimento em todas as superfícies, evitando o descascamento. O produto possui resistência à oxidação em altas temperaturas, que é estável em altas temperaturas de até 1600°C. A alta pureza é alcançada usando a deposição química de vapor CVD sob condições de cloração em alta temperatura. O produto possui superfície densa com partículas finas, o que o torna altamente resistente à corrosão por ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
Nosso susceptor MOCVD revestido com SiC garante o melhor padrão de fluxo de gás laminar, o que garante uniformidade do perfil térmico. Isto ajuda a evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas, garantindo um crescimento epitaxial de alta qualidade no chip wafer. A Semicorex oferece uma vantagem de preço competitivo e cobre muitos mercados europeus e americanos. Nossa equipe se dedica a fornecer excelente atendimento e suporte ao cliente. Temos o compromisso de nos tornar seu parceiro de longo prazo, fornecendo produtos confiáveis e de alta qualidade para ajudar seu negócio a crescer.
Parâmetros do susceptor MOCVD revestido de SiC
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Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
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Propriedades SiC-CVD |
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Estrutura Cristalina |
Fase β do FCC |
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Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
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Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
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Tamanho do grão |
μm |
2~10 |
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Pureza Química |
% |
99.99995 |
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Capacidade de calor |
J kg-1 K-1 |
640 |
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Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
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Força Felexural |
MPa (TR 4 pontos) |
415 |
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Módulo de Young |
Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) |
430 |
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Expansão Térmica (CTE) |
10-6K-1 |
4.5 |
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Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características do susceptor MOCVD revestido com SiC
-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas





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Susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD
Susceptor MOCVD para crescimento epitaxial
Placa de disco estrela de cobertura MOCVD para Wafer Epitaxy
Plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC
Susceptor de SiC para MOCVD