Semicorex é um fabricante e fornecedor líder de susceptor de SiC para MOCVD. Nosso produto é especialmente projetado para atender às necessidades da indústria de semicondutores no crescimento da camada epitaxial no chip wafer. O produto é utilizado como placa central em MOCVD, com design em forma de engrenagem ou anel. Possui alta resistência ao calor e à corrosão, tornando-o ideal para uso em ambientes extremos.
Nosso SiC Susceptor para MOCVD é um produto de alta qualidade que possui vários recursos importantes. Garante revestimento em toda a superfície, evitando o descascamento, e possui resistência à oxidação em altas temperaturas, garantindo estabilidade mesmo em altas temperaturas de até 1600°C. O produto é feito com alta pureza através da deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura. Possui uma superfície densa com partículas finas, tornando-o altamente resistente à corrosão por ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
Nosso Susceptor SiC para MOCVD foi projetado para garantir o melhor padrão de fluxo de gás laminar, garantindo a uniformidade do perfil térmico. Evita qualquer contaminação ou difusão de impurezas, garantindo crescimento epitaxial de alta qualidade no chip wafer.
Parâmetros do Susceptor SiC para MOCVD
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
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Propriedades do SiC-CVD |
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Estrutura de cristal |
FCC fase β |
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho de grão |
¼m |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (dobra de 4pt, 1300â) |
430 |
Expansão Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características do SiC Susceptor para MOCVD
- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas