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Plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC

Plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC

A Semicorex é um fornecedor e fabricante respeitável da plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC. Nosso produto é especialmente projetado para atender às necessidades da indústria de semicondutores no crescimento da camada epitaxial no chip wafer. O produto é utilizado como placa central em MOCVD, com design em forma de engrenagem ou anel. Possui alta resistência ao calor e à corrosão, tornando-o ideal para uso em ambientes extremos.

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Descrição do produto

Uma das características mais significativas da nossa plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC é a capacidade de garantir o revestimento em toda a superfície, evitando o descascamento. Possui resistência à oxidação em altas temperaturas, garantindo estabilidade mesmo em altas temperaturas de até 1600°C. O produto é feito com alta pureza através da deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura. Possui uma superfície densa com partículas finas, tornando-o altamente resistente à corrosão por ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
Nossa plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC foi projetada para garantir o melhor padrão de fluxo de gás laminar, garantindo a uniformidade do perfil térmico. Evita qualquer contaminação ou difusão de impurezas, garantindo crescimento epitaxial de alta qualidade no chip wafer. Oferecemos preços competitivos para o nosso produto, tornando-o acessível a muitos clientes. Nossa equipe se dedica a fornecer excelente atendimento e suporte ao cliente. Cobrimos muitos dos mercados europeus e americanos e nos esforçamos para nos tornar seu parceiro de longo prazo no fornecimento de plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC confiável e de alta qualidade. Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso produto.


Parâmetros da plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD

Estrutura de cristal

FCC fase β

Densidade

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamanho de grão

¼m

2~10

Pureza Química

%

99.99995

Capacidade de calor

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura de Sublimação

2700

Força Felexural

MPa (RT 4 pontos)

415

Módulo de Young

Gpa (dobra de 4pt, 1300â)

430

Expansão Térmica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Condutividade térmica

(W/mK)

300


Características da plataforma de satélite de grafite MOCVD revestida com SiC

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas




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