Você pode ter certeza de comprar susceptores de epitaxia de silício de nossa fábrica. O Silicon Epitaxy Susceptor da Semicorex é um produto de alta qualidade e pureza usado na indústria de semicondutores para o crescimento epitaxial do chip wafer. Nosso produto possui uma tecnologia de revestimento superior que garante que o revestimento esteja presente em todas as superfícies, evitando a descamação. O produto é estável em altas temperaturas de até 1600°C, tornando-o adequado para uso em ambientes extremos.
Nossos susceptores de epitaxia de silício são feitos por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura, garantindo alta pureza. A superfície do produto é densa, com partículas finas e alta dureza, tornando-o resistente à corrosão por ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
Nosso produto é projetado para atingir o melhor padrão de fluxo de gás laminar, garantindo a uniformidade do perfil térmico. Nossos susceptores de epitaxia de silício evitam qualquer contaminação ou difusão de impurezas durante o processo de crescimento epitaxial, garantindo resultados de alta qualidade.
Na Semicorex, nos concentramos em fornecer produtos de alta qualidade e econômicos aos nossos clientes. Nossos susceptores de epitaxia de silício têm uma vantagem de preço e são exportados para muitos mercados europeus e americanos. Nosso objetivo é ser seu parceiro de longo prazo, oferecendo produtos de qualidade consistente e atendimento excepcional ao cliente.
Parâmetros de susceptores de epitaxia de silício
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
||
Propriedades SiC-CVD |
||
Estrutura de cristal |
FCC fase β |
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho de grão |
¼m |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (dobra de 4pt, 1300â) |
430 |
Expansão Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Parâmetros de susceptores de epitaxia de silício
- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas