Susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício

O susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício Semicorex é a escolha definitiva para fabricantes de semicondutores que procuram um transportador de alta qualidade que possa oferecer desempenho e durabilidade superiores. Seu material avançado garante perfil térmico uniforme e padrão de fluxo de gás laminar, proporcionando wafers de alta qualidade.

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Descrição do produto

Nosso susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício é altamente puro, feito por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração em alta temperatura, garantindo a uniformidade e consistência do produto. Também é altamente resistente à corrosão, com superfície densa e partículas finas, o que o torna resistente a ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos. Sua resistência à oxidação em alta temperatura garante estabilidade em altas temperaturas de até 1600°C.
Contate-nos hoje para saber mais sobre nosso susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício.

Parâmetros do susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades SiC-CVD
Estrutura Cristalina	Fase β do FCC
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho do grão	μm	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J kg-1 K-1	640
Temperatura de Sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (TR 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)	430
Expansão Térmica (CTE)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300

Características do susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas

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