Substrato de grafite de carboneto de silício MOCVD Susceptor

O susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício Semicorex é a melhor escolha para fabricantes de semicondutores que procuram um suporte de alta qualidade que possa oferecer desempenho e durabilidade superiores. Seu material avançado garante perfil térmico uniforme e padrão de fluxo de gás laminar, fornecendo wafers de alta qualidade.

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Descrição do produto

Nosso susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício é altamente puro, feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura, garantindo a uniformidade e consistência do produto. Também é altamente resistente à corrosão, com superfície densa e partículas finas, tornando-o resistente a ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos. Sua resistência à oxidação em altas temperaturas garante estabilidade em altas temperaturas de até 1600°C.
Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso susceptor MOCVD de substrato de grafite de carboneto de silício.

Parâmetros do Susceptor MOCVD do Substrato de Grafite de Carbeto de Silício

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades do SiC-CVD
Estrutura de cristal	FCC fase β
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho de grão	Î¼m	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J·kg-1 ·K-1	640
Temperatura de sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (RT 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (dobra de 4pt, 1300â)	430
Expansão Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300

Características do susceptor de grafite revestido com SiC para MOCVD

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas