Lar > Produtos > Carboneto de Silício Revestido

China Carboneto de Silício Revestido Fabricantes, Fornecedores, Fábrica

O revestimento de SiC é uma camada fina sobre o susceptor através do processo de deposição química de vapor (CVD). O material de carboneto de silício oferece uma série de vantagens sobre o silício, incluindo 10x a resistência do campo elétrico de ruptura, 3x o intervalo de banda, o que fornece ao material alta temperatura e resistência química, excelente resistência ao desgaste, bem como condutividade térmica.

A Semicorex oferece serviços personalizados, ajuda você a inovar com componentes que duram mais, reduzem os tempos de ciclo e melhoram os rendimentos.


O revestimento SiC possui várias vantagens exclusivas

Resistência a altas temperaturas: O susceptor revestido com CVD SiC pode suportar altas temperaturas de até 1600°C sem sofrer degradação térmica significativa.

Resistência Química: O revestimento de carboneto de silício oferece excelente resistência a uma ampla gama de produtos químicos, incluindo ácidos, álcalis e solventes orgânicos.

Resistência ao desgaste: O revestimento SiC confere ao material excelente resistência ao desgaste, tornando-o adequado para aplicações que envolvem alto desgaste.

Condutividade Térmica: O revestimento CVD SiC fornece ao material alta condutividade térmica, tornando-o adequado para uso em aplicações de alta temperatura que exigem transferência de calor eficiente.

Alta resistência e rigidez: O susceptor revestido de carboneto de silício confere ao material alta resistência e rigidez, tornando-o adequado para aplicações que requerem alta resistência mecânica.


O revestimento SiC é usado em diversas aplicações

Fabricação de LED: O susceptor revestido com SiC CVD é usado na fabricação de vários tipos de LED, incluindo LED azul e verde, LED UV e LED UV profundo, devido à sua alta condutividade térmica e resistência química.



Comunicação móvel: O susceptor revestido com CVD SiC é uma parte crucial do HEMT para completar o processo epitaxial GaN-on-SiC.



Processamento de semicondutores: O susceptor revestido de CVD SiC é usado na indústria de semicondutores para diversas aplicações, incluindo processamento de wafer e crescimento epitaxial.





Componentes de grafite revestidos com SiC

Feito de grafite Silicon Carbide Coating (SiC), o revestimento é aplicado por um método CVD em graus específicos de grafite de alta densidade, para que possa operar no forno de alta temperatura com mais de 3.000 °C em atmosfera inerte, 2.200 °C em vácuo .

As propriedades especiais e a baixa massa do material permitem taxas de aquecimento rápidas, distribuição uniforme de temperatura e excelente precisão no controle.


Dados materiais do revestimento Semicorex SiC

Propriedades típicas

Unidades

Valores

Estrutura


Fase β do FCC

Orientação

Fração (%)

111 preferido

Densidade aparente

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Capacidade de calor

J kg-1 K-1

640

Expansão térmica 100–600 °C (212–1112 °F)

10-6K-1

4.5

Módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)

430

Tamanho do grão

μm

2~10

Temperatura de Sublimação

2700

Força Felexural

MPa (TR 4 pontos)

415

Condutividade térmica

(W/mK)

300


Conclusão O susceptor revestido com CVD SiC é um material compósito que combina as propriedades de um susceptor e de carboneto de silício. Este material possui propriedades únicas, incluindo alta temperatura e resistência química, excelente resistência ao desgaste, alta condutividade térmica e alta resistência e rigidez. Essas propriedades o tornam um material atraente para diversas aplicações de alta temperatura, incluindo processamento de semicondutores, processamento químico, tratamento térmico, fabricação de células solares e fabricação de LED.






View as  
 
Sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE)

Sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE)

O sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE) Semicorex é um produto inovador que oferece excelente desempenho térmico, perfil térmico uniforme e adesão de revestimento superior. Sua alta pureza, resistência à oxidação em alta temperatura e resistência à corrosão o tornam a escolha ideal para uso na indústria de semicondutores. Suas opções customizáveis ​​e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.

consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Deposição epitaxial de CVD em reator de barril

Deposição epitaxial de CVD em reator de barril

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.

consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Deposição Epitaxial de Silício em Reator Barril

Deposição Epitaxial de Silício em Reator Barril

Se você precisa de um susceptor de grafite de alto desempenho para uso em aplicações de fabricação de semicondutores, o reator de deposição epitaxial de silício Semicorex em barril é a escolha ideal. Seu revestimento de SiC de alta pureza e condutividade térmica excepcional fornecem proteção superior e propriedades de distribuição de calor, tornando-o a escolha certa para desempenho confiável e consistente mesmo nos ambientes mais desafiadores.

consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Sistema Epi de Barril Aquecido Indutivamente

Sistema Epi de Barril Aquecido Indutivamente

Se você precisa de um susceptor de grafite com condutividade térmica excepcional e propriedades de distribuição de calor, não procure além do Sistema Epi de Barril Aquecido Indutivamente Semicorex. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura, tornando-o a escolha ideal para uso em aplicações de fabricação de semicondutores.

consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Estrutura de barril para reator epitaxial semicondutor

Estrutura de barril para reator epitaxial semicondutor

Com suas excepcionais propriedades de condutividade térmica e distribuição de calor, a Estrutura de Barril Semicorex para Reator Epitaxial Semicondutor é a escolha perfeita para uso em processos LPE e outras aplicações de fabricação de semicondutores. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura.

consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Susceptor de barril de grafite revestido de SiC

Susceptor de barril de grafite revestido de SiC

Se você está procurando um susceptor de grafite de alto desempenho para uso em aplicações de fabricação de semicondutores, o susceptor de barril de grafite revestido com SiC Semicorex é a escolha ideal. Sua excepcional condutividade térmica e propriedades de distribuição de calor o tornam a escolha ideal para desempenho confiável e consistente em ambientes corrosivos e de alta temperatura.

consulte Mais informaçãoEnviar consulta
A Semicorex produz Carboneto de Silício Revestido há muitos anos e é um dos fabricantes e fornecedores profissionais de Carboneto de Silício Revestido na China. Depois de comprar nossos produtos avançados e duráveis ​​que fornecem embalagem a granel, garantimos a grande quantidade em entrega rápida. Ao longo dos anos, fornecemos aos clientes um serviço personalizado. Os clientes estão satisfeitos com nossos produtos e excelente serviço. Esperamos sinceramente tornar-se seu parceiro comercial confiável de longo prazo! Bem-vindo ao comprar produtos de nossa fábrica.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept