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Porta-placas revestidas com SiC para MOCVD

Porta-placas revestidas com SiC para MOCVD

Os transportadores de placas revestidas com SiC da Semicorex para MOCVD são transportadores de alta qualidade projetados para uso no processo de fabricação de semicondutores. Sua alta pureza, excelente resistência à corrosão e até perfil térmico o tornam uma excelente escolha para quem procura um suporte que possa suportar as demandas do processo de fabricação de semicondutores.

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Descrição do produto

Nossos suportes de placas revestidos com SiC para MOCVD apresentam alta pureza, tornando-os uma excelente escolha para quem procura um suporte altamente uniforme e consistente em suas propriedades.
Nossos porta-placas revestidos com SiC para MOCVD feitos com um revestimento de carboneto de silício de alta pureza em grafite, o que o torna altamente resistente à oxidação em altas temperaturas de até 1600°C. O processo de deposição de vapor químico CVD usado em sua fabricação garante alta pureza e excelente resistência à corrosão. É altamente resistente à corrosão, com superfície densa e partículas finas, tornando-o resistente a ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos. Sua resistência à oxidação em altas temperaturas garante estabilidade em altas temperaturas de até 1600°C.


Parâmetros de suportes de placas revestidas com SiC para MOCVD

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades do SiC-CVD

Estrutura de cristal

FCC fase β

Densidade

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamanho de grão

μm

2~10

Pureza Química

%

99.99995

Capacidade de calor

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura de Sublimação

2700

Força Felexural

MPa (RT 4 pontos)

415

Módulo de Young

Gpa (dobra de 4pt, 1300â)

430

Expansão Térmica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Condutividade térmica

(W/mK)

300


Características do susceptor de grafite revestido com SiC para MOCVD

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas




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