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Porta-placas revestidas de SiC para MOCVD

Porta-placas revestidas de SiC para MOCVD

Os transportadores de placas revestidas de SiC Semicorex para MOCVD são um transportador de alta qualidade projetado para uso no processo de fabricação de semicondutores. Sua alta pureza, excelente resistência à corrosão e até mesmo perfil térmico o tornam uma excelente escolha para quem procura um transportador que possa suportar as demandas do processo de fabricação de semicondutores.

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Descrição do produto

Nossos transportadores de placas revestidos com SiC para MOCVD apresentam alta pureza, tornando-os uma excelente escolha para quem procura um transportador altamente uniforme e consistente em suas propriedades.
Nossos porta-placas revestidos com SiC para MOCVD são feitos com um revestimento de carboneto de silício de alta pureza sobre grafite, o que o torna altamente resistente à oxidação em altas temperaturas de até 1600°C. O processo de deposição química de vapor CVD utilizado em sua fabricação garante alta pureza e excelente resistência à corrosão. É altamente resistente à corrosão, com superfície densa e partículas finas, o que o torna resistente a ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos. Sua resistência à oxidação em alta temperatura garante estabilidade em altas temperaturas de até 1600°C.


Parâmetros de suportes de placas revestidos de SiC para MOCVD

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD

Estrutura Cristalina

Fase β do FCC

Densidade

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamanho do grão

μm

2~10

Pureza Química

%

99.99995

Capacidade de calor

J kg-1 K-1

640

Temperatura de Sublimação

2700

Força Felexural

MPa (TR 4 pontos)

415

Módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)

430

Expansão Térmica (CTE)

10-6K-1

4.5

Condutividade térmica

(W/mK)

300


Características do susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas




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