Com seu alto ponto de fusão, resistência à oxidação e resistência à corrosão, o susceptor de barril revestido de SiC Semicorex para crescimento de LPE é a escolha perfeita para uso em aplicações de crescimento de cristal único. Seu revestimento de carboneto de silício oferece propriedades excepcionais de planicidade e distribuição de calor, garantindo um desempenho confiável e consistente mesmo nos ambientes de alta temperatura mais exigentes.
O susceptor de barril revestido de SiC Semicorex para crescimento de LPE é um produto de grafite de alta qualidade revestido com SiC de alta pureza, projetado especificamente para processos de LPE e outras aplicações de fabricação de semicondutores. Sua excepcional densidade e condutividade térmica fornecem proteção e distribuição de calor superiores em ambientes corrosivos e de alta temperatura.
Na Semicorex, nos concentramos em fornecer susceptor de barril revestido de SiC de alta qualidade e econômico para crescimento de LPE, priorizamos a satisfação do cliente e fornecemos soluções econômicas. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo, oferecendo produtos de alta qualidade e atendimento excepcional ao cliente.
Parâmetros do susceptor de barril revestido de SiC para crescimento de LPE
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
||
Propriedades SiC-CVD |
||
Estrutura de cristal |
FCC fase β |
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho de grão |
μm |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (dobra de 4pt, 1300â) |
430 |
Expansão Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características do susceptor de barril revestido de SiC para crescimento de LPE
- Tanto o substrato de grafite quanto a camada de carboneto de silício têm boa densidade e podem desempenhar um bom papel de proteção em ambientes de trabalho corrosivos e de alta temperatura.
- Susceptor revestido de carboneto de silício usado para crescimento de cristal único tem um nivelamento de superfície muito alto.
- Reduza a diferença no coeficiente de expansão térmica entre o substrato de grafite e a camada de carboneto de silício, melhore efetivamente a força de ligação para evitar rachaduras e delaminação.
- Tanto o substrato de grafite quanto a camada de carboneto de silício têm alta condutividade térmica e excelentes propriedades de distribuição de calor.
- Alto ponto de fusão, resistência à oxidação em alta temperatura, resistência à corrosão.