Transportador de Wafer Semicondutor para Equipamento MOCVD

Você pode ter certeza de comprar Semiconductor Wafer Carrier para MOCVD Equipment de nossa fábrica. Portadores de wafer semicondutores são um componente essencial do equipamento MOCVD. Eles são usados para transportar e proteger bolachas semicondutoras durante o processo de fabricação. Os transportadores de wafer semicondutores para equipamentos MOCVD são feitos de materiais de alta pureza e são projetados para manter a integridade dos wafers durante o processamento.

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Descrição do produto

nosso Semiconductor Wafer Carrier para equipamentos MOCVD é um componente essencial do processo de fabricação de semicondutores. É feito de grafite de alta pureza com revestimento de carboneto de silício pelo método CVD e é projetado para acomodar vários wafers. O transportador oferece vários benefícios, incluindo maior rendimento, maior produtividade, menor contaminação, maior segurança e economia. Se você está procurando um Semiconductor Wafer Carrier confiável e de alta qualidade para equipamentos MOCVD, nosso produto é a solução perfeita.
Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso Semiconductor Wafer Carrier para equipamentos MOCVD.

Parâmetros do Portador de Wafer Semicondutor para Equipamento MOCVD

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades SiC-CVD
Estrutura de cristal	FCC fase β
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho de grão	Î¼m	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J·kg-1 ·K-1	640
Temperatura de Sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (RT 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (dobra de 4pt, 1300â)	430
Expansão Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300

Características do susceptor de grafite revestido com SiC para MOCVD

- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas