Transportador de wafer semicondutor para equipamento MOCVD

Você pode ter a certeza de comprar transportador de wafer semicondutor para equipamentos MOCVD de nossa fábrica. Os portadores de wafer semicondutores são um componente essencial do equipamento MOCVD. Eles são usados para transportar e proteger wafers semicondutores durante o processo de fabricação. Os transportadores de wafer semicondutores para equipamentos MOCVD são feitos de materiais de alta pureza e são projetados para manter a integridade dos wafers durante o processamento.

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Descrição do produto

nosso transportador de wafer semicondutor para equipamentos MOCVD é um componente essencial do processo de fabricação de semicondutores. É feito de grafite de alta pureza com revestimento de carboneto de silício pelo método CVD e é projetado para acomodar vários wafers. A transportadora oferece vários benefícios, incluindo melhor rendimento, maior produtividade, redução de contaminação, maior segurança e economia. Se você está procurando um transportador de wafer semicondutor confiável e de alta qualidade para equipamentos MOCVD, nosso produto é a solução perfeita.
Contate-nos hoje para saber mais sobre nosso transportador de wafer semicondutor para equipamentos MOCVD.

Parâmetros do transportador de wafer semicondutor para equipamento MOCVD

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades SiC-CVD
Estrutura Cristalina	Fase β do FCC
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho do grão	μm	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J kg-1 K-1	640
Temperatura de Sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (TR 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)	430
Expansão Térmica (CTE)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300

Características do susceptor de grafite revestido de SiC para MOCVD

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas

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