O suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos carreadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSe você precisa de um susceptor de grafite com condutividade térmica excepcional e propriedades de distribuição de calor, não procure mais do que o sistema Epi de barril aquecido indutivamente Semicorex para epitaxia LPE. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura, tornando-o a escolha ideal para uso em aplicações de fabricação de semicondutores.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaCom sua excepcional condutividade térmica e propriedades de distribuição de calor, a Estrutura Barril Semicorex para Reator Epitaxial Semicondutor é a escolha perfeita para uso em processos LPE e outras aplicações de fabricação de semicondutores. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO barril de grafite revestido com carboneto de silício Semicorex é a escolha perfeita para aplicações de fabricação de semicondutores que exigem alta resistência ao calor e à corrosão. Sua excepcional condutividade térmica e propriedades de distribuição de calor o tornam ideal para uso em processos LPE e outros ambientes de alta temperatura.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Susceptor de Barril Revestido com Carboneto de Silício Semicorex é um produto de grafite de alta qualidade revestido com SiC de alta pureza, oferecendo excepcional resistência ao calor e à corrosão. Ele foi projetado especificamente para aplicações LPE na indústria de fabricação de semicondutores.
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