A placa transportadora de grafite RTP da Semicorex é a solução perfeita para aplicações de processamento de wafer semicondutor, incluindo crescimento epitaxial e processamento de manuseio de wafer. Nosso produto é projetado para oferecer resistência térmica superior e uniformidade térmica, garantindo que os susceptores de epitaxia sejam submetidos ao ambiente de deposição, com alta resistência ao calor e à corrosão.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSemicorex é um fabricante e fornecedor em larga escala de Susceptor de Grafite Revestido de Carbeto de Silício na China. Susceptor de grafite Semicorex projetado especificamente para equipamentos de epitaxia com alta resistência ao calor e à corrosão na China. Nosso transportador revestido de SiC RTP RTA tem uma boa vantagem de preço e cobre muitos dos mercados europeu e americano. Estamos ansiosos para se tornar seu parceiro de longo prazo.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Semicorex RTP Carrier para MOCVD Epitaxial Growth é ideal para aplicações de processamento de wafer semicondutor, incluindo crescimento epitaxial e processamento de manuseio de wafer. Susceptores de grafite de carbono e cadinhos de quartzo são processados por MOCVD na superfície de grafite, cerâmica, etc. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem muitos dos mercados europeu e americano. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos carreadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSistema Epi Susceptor Barrel Semicorex para LPE Epitaxy é um produto de alta qualidade que oferece adesão de revestimento superior, alta pureza e resistência à oxidação em alta temperatura. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação o tornam a escolha ideal para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua relação custo-benefício e customização o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO Barril Susceptor Revestido de SiC da Semicorex para Câmara de Reator LPE é uma solução altamente confiável para processos de fabricação de semicondutores, apresentando distribuição de calor superior e propriedades de condutividade térmica. Também é altamente resistente à corrosão, oxidação e altas temperaturas.
consulte Mais informaçãoEnviar consulta