China Revestimento TaC Fabricantes, Fornecedores, Fábrica

O grafite com revestimento TaC é criado revestindo a superfície de um substrato de grafite de alta pureza com uma fina camada de carboneto de tântalo por meio de um processo proprietário de Deposição Química de Vapor (CVD).

O carboneto de tântalo (TaC) é um composto que consiste em tântalo e carbono. Possui condutividade elétrica metálica e ponto de fusão excepcionalmente alto, tornando-o um material cerâmico refratário conhecido por sua resistência, dureza e resistência ao calor e ao desgaste. O ponto de fusão dos carbonetos de tântalo atinge o pico em cerca de 3880°C dependendo da pureza e tem um dos pontos de fusão mais altos entre os compostos binários. Isso o torna uma alternativa atraente quando as demandas de temperaturas mais altas excedem as capacidades de desempenho usadas em processos epitaxiais de semicondutores compostos, como MOCVD e LPE.

Dados materiais do revestimento Semicorex TaC

Projetos	Parâmetros
Densidade	14,3 (g/cm³)
Emissividade	0.3
CTE (×10^-6/K)	6.3
Dureza (HK)	2000
Resistência (Ohm-cm)	1x10^-5
Estabilidade Térmica	<2500℃
Mudança de dimensão de grafite	-10~-20um (valor de referência)
Espessura do revestimento	≥20um valor típico(35um±10um)

Os acima são valores típicos

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Bandeja de wafer com revestimento TaC

A bandeja de wafer com revestimento Semicorex TaC deve ser projetada para suportar os desafios de as condições extremas dentro da câmara de reação, incluindo altas temperaturas e ambientes quimicamente reativos.**

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Placa de revestimento TaC

A placa de revestimento Semicorex TaC se destaca como um componente de alto desempenho para processos exigentes de crescimento epitaxial e outros ambientes de fabricação de semicondutores. Com sua série de propriedades superiores, ela pode, em última análise, aumentar a produtividade e a economia de processos avançados de fabricação de semicondutores.**

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LPE SiC-Epi Meia Lua

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon é um ativo indispensável no mundo da epitaxia, fornecendo uma solução robusta para os desafios impostos por altas temperaturas, gases reativos e rigorosos requisitos de pureza.**

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Cobertura de revestimento CVD TaC

A cobertura de revestimento Semicorex CVD TaC tem se tornado uma tecnologia crítica em ambientes exigentes dentro de reatores epitaxiais, caracterizados por altas temperaturas, gases reativos e requisitos rigorosos de pureza, que exigem materiais robustos para garantir o crescimento consistente de cristais e evitar reações indesejadas.**

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Anel guia de revestimento TaC

O anel guia de revestimento Semicorex TaC serve como uma parte fundamental dentro do equipamento de deposição de vapor químico metal-orgânico (MOCVD), garantindo a entrega precisa e estável de gases precursores durante o processo de crescimento epitaxial. O anel guia de revestimento TaC representa uma série de propriedades que o tornam ideal para suportar as condições extremas encontradas na câmara do reator MOCVD.**

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Mandril de wafer de revestimento TaC

Semicorex TaC Coating Wafer Chuck se destaca como o auge da inovação no processo de epitaxia de semicondutores, uma fase crítica na fabricação de semicondutores. Com o nosso compromisso de fornecer produtos de alta qualidade a preços competitivos, estamos preparados para ser o seu parceiro de longo prazo na China.*

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A Semicorex produz Revestimento TaC há muitos anos e é um dos fabricantes e fornecedores profissionais de Revestimento TaC na China. Depois de comprar nossos produtos avançados e duráveis que fornecem embalagem a granel, garantimos a grande quantidade em entrega rápida. Ao longo dos anos, fornecemos aos clientes um serviço personalizado. Os clientes estão satisfeitos com nossos produtos e excelente serviço. Esperamos sinceramente tornar-se seu parceiro comercial confiável de longo prazo! Bem-vindo ao comprar produtos de nossa fábrica.