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Placa Planetária Revestida TaC
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Placa Planetária Revestida TaC

A placa planetária revestida Semicorex TaC é um componente de alta precisão projetado para crescimento epitaxial MOCVD, apresentando movimento planetário com vários bolsões de wafer e controle otimizado de fluxo de gás. Escolher a Semicorex significa acessar tecnologia avançada de revestimento e conhecimento de engenharia que proporcionam durabilidade, pureza e estabilidade de processo excepcionais para a indústria de semicondutores.*

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Descrição do produto

A placa planetária revestida Semicorex TaC serve como um componente chave nos reatores MOCVD, exibindo um design planetário caracterizado por numerosos bolsões de wafer dispostos ao longo de sua superfície. Essas bolsas são criadas especificamente para acomodar de forma confiável os wafers durante a fase de crescimento de qualquer camada epitaxial, estabilizando os wafers do substrato e minimizando o movimento do substrato sob temperaturas elevadas do processo. A geometria exata da bolsa fornece posicionamento consistente dos wafers, o que é importante para a espessura uniforme das camadas epitaxiais e os níveis de uniformidade dos defeitos do substrato para todos os wafers cultivados durante o mesmo processo.


Um aspecto importante do projeto da placa planetária, mais uma vez, é a dispersão projetada de finos orifícios de fluxo de gás ao longo da superfície da placa. Esses furos são cuidadosamente projetados e estrategicamente posicionados especificamente para medir o fluxo de gases precursores no reator, de modo que a dispersão uniforme do gás e a deposição uniforme sejam alcançadas entre cada wafer. Em qualquer processo MOCVD, os aspectos da dinâmica dos gases são críticos na determinação das qualidades do filme, da uniformidade da espessura e do desempenho geral do dispositivo. O design otimizado do furo noRevestido com TaCA Placa Planetária garante que todos os wafers passem pelas mesmas condições de processo, o que proporciona uma maneira ideal de melhorar o rendimento e a reprodutibilidade.


ORevestimento TaC (carboneto de tântalo)prolonga ainda mais o desempenho e a vida útil da placa planetária. O carboneto de tântalo é extremamente duro, quimicamente inerte e termicamente condutor, tornando-o um excelente revestimento para ambientes MOCVD extremos. Durante a epitaxia, os componentes do reator encontrarão altas temperaturas, gases precursores reativos e exposição ao plasma. O revestimento TaC serve como uma barreira robusta à corrosão, oxidação e geração de partículas para resultar em uma extensão significativa da vida útil da placa planetária do que uma placa não revestida ou convencionalmente revestida.


A longevidade e durabilidade da placa planetária revestida com TaC tornam-na uma escolha econômica para sistemas MOCVD. A camada durável de TaC pode suportar ciclos térmicos repetidos e exposição a gases de processo extremos, mantendo a integridade estrutural e a estabilidade do desempenho durante a operação por longos períodos de tempo.


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