A placa de gravação de silicone da Semicorex para aplicações de gravação PSS é um transportador de grafite ultrapuro e de alta qualidade projetado especificamente para crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nosso transportador pode suportar ambientes agressivos, altas temperaturas e limpeza química severa. A placa de gravação de silício para aplicações de gravação PSS possui excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômica. Nossos produtos são amplamente utilizados em muitos mercados europeus e americanos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
A placa de gravação de silicone da Semicorex para aplicações de gravação PSS foi projetada para as aplicações de equipamentos de epitaxia mais exigentes. Nosso suporte de grafite ultrapuro pode suportar ambientes agressivos, altas temperaturas e limpezas químicas severas. O transportador revestido de SiC possui excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômico.
Parâmetros da placa de gravação de silicone para aplicações de gravação PSS
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
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Propriedades SiC-CVD |
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Estrutura Cristalina |
Fase β do FCC |
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Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho do grão |
μm |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J kg-1 K-1 |
640 |
Temperatura de sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) |
430 |
Expansão Térmica (CTE) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características da placa de gravação de silicone para aplicações de gravação PSS
-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas