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Produtos > Carboneto de Silício Revestido > Suporte de gravação PSS > Placa de gravação de silicone para aplicações de gravação PSS
Placa de gravação de silicone para aplicações de gravação PSS
A placa de gravação de silicone da Semicorex para aplicações de gravação PSS é um suporte de grafite ultrapuro e de alta qualidade, projetado especificamente para processos de crescimento epitaxial e manuseio de wafer. Nossa transportadora pode suportar ambientes hostis, altas temperaturas e limpeza química agressiva. A placa de ataque de silício para aplicações de ataque PSS tem excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômica. Nossos produtos são amplamente utilizados em muitos mercados europeus e americanos, e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
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Descrição do produto
A placa de gravação de silicone da Semicorex para aplicações de gravação PSS foi projetada para as aplicações de equipamentos de epitaxia mais exigentes. Nosso suporte de grafite ultrapuro pode suportar ambientes hostis, altas temperaturas e limpeza química severa. O suporte revestido de SiC tem excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômico.
Parâmetros da Placa de Gravura de Silício para Aplicações de Gravura PSS
|
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
||
|
Propriedades do SiC-CVD |
||
|
Estrutura de cristal |
FCC fase β |
|
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
|
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
|
Tamanho de grão |
¼m |
2~10 |
|
Pureza Química |
% |
99.99995 |
|
Capacidade de calor |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
|
Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
|
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
|
Módulo de Young |
Gpa (dobra de 4pt, 1300â) |
430 |
|
Expansão Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
|
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características da Placa de Gravura de Silício para Aplicações de Gravura PSS
- Evite descascar e assegure o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feito por deposição de vapor químico CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sais e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir a uniformidade do perfil térmico
- Prevenir qualquer contaminação ou difusão de impurezas
Hot Tags: Silicon Etch Plate for PSS Etching Applications, China, Fabricantes, Fornecedores, Fábrica, Personalizado, Granel, Avançado, Durável
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