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Suporte de suporte de gravação para gravação PSS

Suporte de suporte de gravação para gravação PSS

O suporte de suporte de gravação para gravação PSS da Semicorex foi projetado para as aplicações de equipamentos de epitaxia mais exigentes. Nosso suporte de grafite ultrapuro pode suportar ambientes agressivos, altas temperaturas e limpezas químicas severas. O transportador revestido de SiC possui excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômico. Nossos produtos são amplamente utilizados em muitos mercados europeus e americanos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Na Semicorex, projetamos o Suporte de Gravura para Gravura PSS especificamente para os ambientes severos necessários para crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nosso transportador de grafite ultrapuro é ideal para fases de deposição de filmes finos, como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas de panqueca ou satélite, e processamento de manuseio de wafer, como gravação. O suporte revestido de SiC possui alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Nossos produtos são econômicos e oferecem uma boa vantagem de preço.

Contate-nos hoje para saber mais sobre nosso suporte de gravação para gravação PSS.


Parâmetros do suporte de gravação para gravação PSS

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD

Estrutura Cristalina

Fase β do FCC

Densidade

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamanho do grão

μm

2~10

Pureza Química

%

99.99995

Capacidade de calor

J kg-1 K-1

640

Temperatura de Sublimação

2700

Força Felexural

MPa  (RT 4 pontos)

415

Módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)

430

Expansão Térmica (CTE)

10-6K-1

4.5

Condutividade térmica

(W/mK)

300

 

Características do suporte de gravação para gravação PSS

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir uniformidade do perfil térmico

- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas





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