Suporte de suporte de gravação para gravação PSS

O Suporte de Etching Carrier da Semicorex para PSS Etching é projetado para as aplicações de equipamentos de epitaxia mais exigentes. Nosso suporte de grafite ultrapuro pode suportar ambientes hostis, altas temperaturas e limpeza química severa. O suporte revestido de SiC tem excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômico. Nossos produtos são amplamente utilizados em muitos mercados europeus e americanos, e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Na Semicorex, projetamos o Etching Carrier Holder para PSS Etching especificamente para os ambientes hostis necessários para crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nosso transportador de grafite ultrapuro é ideal para fases de deposição de filmes finos como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas de panqueca ou satélite e processamento de manuseio de wafer, como corrosão. O suporte revestido de SiC tem alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Nossos produtos são econômicos e oferecem uma boa vantagem de preço.

Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso suporte para gravura PSS.

Parâmetros do Suporte de Suporte de Gravura para Gravura PSS

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades do SiC-CVD
Estrutura de cristal	FCC fase β
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho de grão	¼m	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J·kg-1 ·K-1	640
Temperatura de Sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (RT 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (dobra de 4pt, 1300â)	430
Expansão Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300