O suporte de suporte de gravação para gravação PSS da Semicorex foi projetado para as aplicações de equipamentos de epitaxia mais exigentes. Nosso suporte de grafite ultrapuro pode suportar ambientes agressivos, altas temperaturas e limpezas químicas severas. O transportador revestido de SiC possui excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômico. Nossos produtos são amplamente utilizados em muitos mercados europeus e americanos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
Na Semicorex, projetamos o Suporte de Gravura para Gravura PSS especificamente para os ambientes severos necessários para crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nosso transportador de grafite ultrapuro é ideal para fases de deposição de filmes finos, como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas de panqueca ou satélite, e processamento de manuseio de wafer, como gravação. O suporte revestido de SiC possui alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Nossos produtos são econômicos e oferecem uma boa vantagem de preço.
Contate-nos hoje para saber mais sobre nosso suporte de gravação para gravação PSS.
Parâmetros do suporte de gravação para gravação PSS
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
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Propriedades SiC-CVD |
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Estrutura Cristalina |
Fase β do FCC |
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho do grão |
μm |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J kg-1 K-1 |
640 |
Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) |
430 |
Expansão Térmica (CTE) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Características do suporte de gravação para gravação PSS
-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas