Bandeja transportadora de gravação PSS para processamento de wafer

A bandeja transportadora de gravação PSS da Semicorex para processamento de wafer foi projetada especificamente para as aplicações exigentes de equipamentos de epitaxia. Nosso transportador de grafite ultrapuro é ideal para fases de deposição de filmes finos como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas de panqueca ou satélite e processamento de manuseio de wafer, como corrosão. A Bandeja transportadora de gravura PSS para processamento de wafer tem alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Nossos produtos são econômicos e têm uma boa vantagem de preço. Atendemos muitos mercados europeus e americanos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

A Bandeja transportadora de gravura PSS para processamento de wafer da Semicorex foi projetada para ambientes agressivos necessários para crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nosso transportador de grafite ultrapuro foi projetado para suportar wafers durante as fases de deposição de filmes finos, como MOCVD e susceptores de epitaxia, panquecas ou plataformas de satélite. O suporte revestido de SiC tem alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Nossos produtos são econômicos e oferecem uma boa vantagem de preço.

Parâmetros da bandeja transportadora de gravação PSS para processamento de wafer

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades SiC-CVD
Estrutura de cristal	FCC fase β
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho de grão	¼m	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J·kg-1 ·K-1	640
Temperatura de sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (RT 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (dobra de 4pt, 1300â)	430
Expansão Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300