Transportadora de manuseio PSS para transferência de wafer

O transportador de manuseio PSS para transferência de wafer da Semicorex foi projetado para atender aos requisitos de limpeza química severa e de alta temperatura para crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nosso transportador de grafite ultrapuro é ideal para fases de deposição de filmes finos, como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas de panqueca ou satélite, e processamento de manuseio de wafer, como gravação. O transportador revestido de SiC possui excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômico.

Contate-nos hoje para saber mais sobre nosso transportador de manuseio PSS para transferência de wafer.

Parâmetros do Transportador de Manuseio PSS para Transferência de Wafer

Características do transportador de manuseio PSS para transferência de wafer

-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície

Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C

Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.

Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.

Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar

- Garantir uniformidade do perfil térmico

- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas