Transportador de revestimento RTP/RTA SiC

O transportador de revestimento de SiC Semicorex RTP/RTA foi projetado para suportar as condições mais difíceis do ambiente de deposição. Com sua alta resistência ao calor e à corrosão, este produto foi projetado para fornecer desempenho ideal para crescimento epitaxial. O suporte revestido de SiC possui alta condutividade térmica e excelentes propriedades de distribuição de calor, garantindo desempenho confiável para RTA, RTP ou limpeza química agressiva.

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Descrição do produto

Nosso transportador de revestimento RTP/RTA SiC para crescimento epitaxial MOCVD é a solução perfeita para manuseio de wafer e processamento de crescimento epitaxial. Com superfície lisa e alta durabilidade contra limpeza química, este produto oferece desempenho confiável em ambientes agressivos de deposição.
O material do nosso suporte de revestimento RTP/RTA SiC é projetado para evitar rachaduras e delaminação, enquanto a resistência superior ao calor e a uniformidade térmica garantem um desempenho consistente para RTA, RTP ou limpeza química agressiva.
Contate-nos hoje para saber mais sobre nosso transportador de revestimento RTP/RTA SiC

Parâmetros do transportador de revestimento RTP/RTA SiC

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades SiC-CVD
Estrutura Cristalina	Fase β do FCC
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho do grão	μm	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J kg-1 K-1	640
Temperatura de Sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (TR 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)	430
Expansão Térmica (CTE)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300

Características do transportador de revestimento RTP/RTA SiC

Grafite revestida com SiC de alta pureza
Resistência térmica superior e uniformidade térmica
Cristal fino de SiC revestido para uma superfície lisa
Alta durabilidade contra limpeza química
O material é projetado para que não ocorram rachaduras e delaminação.