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SiC Process Tube é um reator em formato de tubo em tratamento térmico para processamento de wafer. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

A Semicorex fornece epitaxia SiC de filme fino personalizado (carboneto de silício) em substratos para o desenvolvimento de dispositivos de carboneto de silício. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

O chuveiro Semicorex CVD-SiC oferece durabilidade, excelente gerenciamento térmico e resistência à degradação química, tornando-o uma escolha adequada para processos CVD exigentes na indústria de semicondutores. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

Em um aparelho de plasma para gravação e deposição química de vapor (CVD) de materiais em wafers, os gases de processo são fornecidos para uma câmara de processo através de um chuveiro de grafite revestido com CVD SiC. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

A pá cantilever de cerâmica SiC de carboneto de silício com grande força de carregamento de wafer é adequada para um sistema de carregamento e manuseio automático de robô porque possui desempenho estável, não deformação em alta temperatura e grande força de carregamento de wafer. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

O substrato de wafer Semicorex 3C-SiC é feito de SiC com cristal cúbico. Somos fabricantes e fornecedores de wafers semicondutores há muitos anos. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.