Cabeça de chuveiro de grafite revestida com CVD SiC

Em um aparelho de plasma para gravação e deposição química de vapor (CVD) de materiais em wafers, os gases de processo são fornecidos para uma câmara de processo através de um chuveiro de grafite revestido com CVD SiC. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

O chuveiro de grafite revestido Semicorex CVD SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) é um componente especializado usado em vários processos industriais, como deposição química de vapor (CVD) e deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD). Desempenha um papel crucial na entrega de gases precursores ou espécies reativas na superfície de um substrato durante esses processos de deposição.

O chuveiro de grafite revestido com SiC CVD é feito de grafite de alta pureza e revestido com uma camada fina de SiC pelo método CVD. O chuveiro de grafite revestido com CVD SiC combina as propriedades benéficas do grafite e do SiC, tornando-o um componente essencial em vários processos de deposição onde é necessária uma distribuição de gás precisa e uniforme, juntamente com resistência a altas temperaturas e ambientes químicos.

Características:

Resistência química

Estabilidade térmica

Superfície lisa e uniforme

Contaminação reduzida