Chuveiro CVD SiC revestido de grafite

Em um aparelho de plasma para gravação e deposição de vapor químico (CVD) de materiais em wafers, os gases do processo são fornecidos a uma câmara de processo através de um chuveiro de grafite revestido com CVD SiC. A Semicorex está empenhada em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos, estamos ansiosos para se tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

A cabeça de chuveiro revestida com grafite CVD SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) é um componente especializado usado em vários processos industriais, como deposição de vapor químico (CVD) e deposição de vapor químico aprimorada por plasma (PECVD). Ele desempenha um papel crucial na entrega de gases precursores ou espécies reativas na superfície de um substrato durante esses processos de deposição.

O chuveiro de grafite revestido com CVD SiC é feito de grafite de alta pureza e revestido com uma camada fina de SiC pelo método CVD. O chuveiro de grafite revestido CVD SiC combina as propriedades benéficas do grafite e do SiC, tornando-o um componente essencial em vários processos de deposição onde é necessária uma distribuição de gás precisa e uniforme, juntamente com resistência a altas temperaturas e ambientes químicos.

Características:

Resistência química

Estabilidade térmica

Superfície lisa e uniforme

Contaminação reduzida