Chuveiro CVD-SiC

O chuveiro semicorex CVD-SiC oferece durabilidade, excelente gerenciamento térmico e resistência à degradação química, tornando-o uma escolha adequada para processos CVD exigentes na indústria de semicondutores. A Semicorex está empenhada em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos, estamos ansiosos para se tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

No contexto de um chuveiro CVD, um chuveiro CVD-SiC é normalmente projetado para distribuir uniformemente os gases precursores sobre a superfície do substrato durante o processo CVD. A ducha geralmente é posicionada acima do substrato, e os gases precursores fluem por pequenos orifícios ou bicos em sua superfície.

O material CVD-SiC usado no chuveiro oferece várias vantagens. Sua alta condutividade térmica ajuda a dissipar o calor gerado durante o processo CVD, garantindo uma distribuição uniforme da temperatura em todo o substrato. Além disso, a estabilidade química do SiC permite que ele resista a gases corrosivos e ambientes hostis comumente encontrados em processos CVD.

O design de um chuveiro CVD-SiC pode variar dependendo do sistema CVD específico e dos requisitos do processo. No entanto, normalmente consiste em uma placa ou componente em forma de disco com uma variedade de orifícios ou ranhuras perfurados com precisão. O padrão e a geometria dos orifícios são cuidadosamente projetados para garantir uma distribuição uniforme de gás e taxas de fluxo em toda a superfície do substrato.