A placa transportadora de gravação Semicorex PSS para semicondutores foi especialmente projetada para ambientes de limpeza química agressivos e de alta temperatura, necessários para crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nossa placa transportadora de gravação PSS ultrapura para semicondutores foi projetada para suportar wafers durante fases de deposição de filme fino, como MOCVD e susceptores de epitaxia, panqueca ou plataformas de satélite. Nosso suporte revestido de SiC possui alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Fornecemos soluções econômicas aos nossos clientes e nossos produtos cobrem muitos mercados europeus e americanos. A Semicorex espera ser seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaOs transportadores de wafer usados no crescimento epixial e no processamento de manuseio de wafer devem suportar altas temperaturas e limpeza química severa. Transportador de gravação PSS revestido com SiC Semicorex projetado especificamente para essas exigentes aplicações de equipamentos de epitaxia. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem muitos mercados europeus e americanos. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO susceptor de barril revestido de SiC Semicorex para crescimento epitaxial de LPE é um produto de alto desempenho projetado para fornecer desempenho consistente e confiável por um período prolongado. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade em chips de wafer. Sua customização e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSemicorex Barrel Susceptor Epi System é um produto de alta qualidade que oferece adesão de revestimento superior, alta pureza e resistência à oxidação em alta temperatura. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Seu custo-benefício e customização o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE) Semicorex é um produto inovador que oferece excelente desempenho térmico, perfil térmico uniforme e adesão de revestimento superior. Sua alta pureza, resistência à oxidação em alta temperatura e resistência à corrosão o tornam a escolha ideal para uso na indústria de semicondutores. Suas opções customizáveis e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.
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