O suporte de wafer da Semicorex para processo de gravação ICP é a escolha perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto possui resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica e padrões ideais de fluxo de gás laminar para resultados consistentes e confiáveis.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO grafite revestido com carbono e silício ICP da Semicorex é a escolha ideal para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto possui resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica e padrões ideais de fluxo de gás laminar.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaEscolha o sistema de gravação de plasma ICP da Semicorex para processo PSS para processos de epitaxia e MOCVD de alta qualidade. Nosso produto é projetado especificamente para esses processos, oferecendo resistência superior ao calor e à corrosão. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaA placa de gravação a plasma ICP da Semicorex oferece resistência superior ao calor e à corrosão para manuseio de wafers e processos de deposição de filmes finos. Nosso produto é projetado para suportar altas temperaturas e limpezas químicas severas, garantindo durabilidade e longevidade. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaProcurando um transportador de wafer confiável para processos de gravação? Não procure mais, o transportador de gravação ICP de carboneto de silício da Semicorex. Nosso produto é projetado para suportar altas temperaturas e limpezas químicas severas, garantindo durabilidade e longevidade. Com uma superfície limpa e lisa, nosso transportador é perfeito para manusear wafers imaculados.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaA placa SiC da Semicorex para processo de gravação ICP é a solução perfeita para requisitos de processamento químico severos e de alta temperatura na deposição de filmes finos e manuseio de wafers. Nosso produto possui resistência ao calor superior e até uniformidade térmica, garantindo espessura e resistência consistentes da camada epi. Com uma superfície limpa e lisa, nosso revestimento de cristal SiC de alta pureza proporciona um manuseio ideal para wafers imaculados.
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