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Disco Wafer revestido com SiC

Disco Wafer revestido com SiC

O disco Wafer revestido com SiC Semicorex representa um avanço líder na tecnologia de fabricação de semicondutores, desempenhando um papel essencial no complexo processo de fabricação de semicondutores. Projetado com precisão meticulosa, este disco é fabricado em grafite revestido com SiC de qualidade superior, proporcionando excelente desempenho e durabilidade para aplicações de epitaxia de silício. Nós da Semicorex nos dedicamos à fabricação e fornecimento de discos wafer revestidos de SiC de alto desempenho que combinam qualidade com economia.

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Descrição do produto

A base do Disco Wafer Semicorex revestido com SiC consiste em grafite de alta qualidade, habilmente revestida com SiC de Deposição Química de Vapor (CVD). Esta construção avançada oferece resistência excepcional a choques térmicos e degradação química, prolongando significativamente a vida útil do disco Wafer revestido de SiC e garantindo um desempenho confiável durante todo o processo de fabricação de semicondutores.


Notavelmente, o disco Wafer revestido com SiC é excelente em condutividade térmica, o que é crítico para a dissipação eficaz de calor durante a fabricação de semicondutores. Esse recurso minimiza gradientes térmicos em toda a superfície do wafer, promovendo distribuição uniforme de temperatura, essencial para alcançar as características desejadas do semicondutor.


O revestimento de SiC oferece proteção robusta contra corrosão química e choque térmico, mantendo a integridade do disco Wafer revestido de SiC mesmo em ambientes de processo severos. Essa durabilidade aprimorada resulta em uma vida útil operacional mais longa e em tempos de inatividade reduzidos, contribuindo para aumentar a produtividade e a eficiência de custos em instalações de fabricação de semicondutores.


Além disso, o Disco Wafer revestido com SiC pode ser adaptado para atender a requisitos e preferências específicas. Oferecemos opções de personalização que vão desde ajustes de tamanho até variações na espessura do revestimento, permitindo flexibilidade de projeto que otimiza o desempenho em diferentes aplicações e parâmetros de processo.



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