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Peças da segunda metade para defletores inferiores no processo epitaxial

Peças da segunda metade para defletores inferiores no processo epitaxial

Peças da segunda metade Semicorex para defletores inferiores no processo epitaxial, componentes meticulosamente projetados para revolucionar o desempenho de seus dispositivos semicondutores. Adaptados especificamente para o sistema de admissão de reatores LPE, esses acessórios semicilíndricos desempenham um papel fundamental na melhoria do processo de crescimento epitaxial. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

As peças da segunda metade para defletores inferiores no processo epitaxial apresentam um formato semicilíndrico distinto, estrategicamente projetado para otimizar o fluxo de gás dentro do reator epitaxial. Fabricadas em grafite de alta qualidade com revestimentos CVD SiC, essas peças garantem durabilidade e estabilidade térmica excepcionais. Projetados para suportar os rigores da fabricação de semicondutores, eles contribuem para a longevidade e a confiabilidade do seu equipamento.
Os componentes são intrinsecamente projetados para otimizar o fluxo de gás, garantindo distribuição e deposição eficientes de materiais durante o processo de crescimento epitaxial. Isso resulta em qualidade de camada superior em wafers semicondutores.


Aplicações:

Adaptado para reatores epitaxiais na fabricação de semicondutores.

Componentes críticos para alcançar um crescimento epitaxial preciso e uniforme.


Eleve suas capacidades de fabricação de semicondutores com nossas peças da segunda metade para defletores inferiores no processo epitaxial. Confie na inovação e confiabilidade de nossos componentes semicilíndricos, revestidos com CVD SiC para maior durabilidade. Fique na vanguarda da tecnologia de semicondutores com esses acessórios avançados, garantindo desempenho ideal e qualidade consistente da camada epitaxial. Escolha peças da segunda metade para defletores inferiores no processo epitaxial – onde a precisão encontra o progresso.





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